[發(fā)明專利]用于圖形子系統(tǒng)的模塊描繪方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00117631.5
• 申請(qǐng)日: 2000-05-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1274902A
• 公開(kāi)（公告）日: 2000-11-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C·R·約翰斯;J·S·利伯蒂;B·W·邁克爾;J·F·斯潘瑙斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司
• 主分類號(hào): G06T11/00
• 分類號(hào): G06T11/00;G06F15/00;G06F3/14
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 王岳,傅康

1.一種描繪基元的方法，包括：

將基元分為跨度組；

從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組；和

從入口開(kāi)始沿著跨度以朝向基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中將基元分為跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

將基元分為跨度組，每個(gè)跨度組包括至少兩個(gè)子跨度組。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

交替描繪來(lái)自不同子跨度組的像素模塊，同時(shí)沿著跨度描繪。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中交替描繪來(lái)自不同子跨度組的像素模塊，同時(shí)沿著跨度描繪的步驟進(jìn)一步包括：

(a)描繪子跨度組內(nèi)的像素模塊；

(b)描繪與最后描繪的像素模塊相鄰并處于與最后描繪的像素模塊相同的子跨度組內(nèi)的像素模塊；

(c)描繪與步驟(b)內(nèi)描繪的像素模塊相鄰的不同子跨度組內(nèi)的像素模塊；和

(d)重復(fù)步驟(b)和(c)直到已描繪當(dāng)前描繪方向上的當(dāng)前跨度組內(nèi)的所有像素模塊。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中將基元分為跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

將基元分為四跨度組。

6.如權(quán)利要求5所述方法，其中從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

交替描繪一個(gè)或兩個(gè)來(lái)自處于一個(gè)跨度組內(nèi)的兩個(gè)不同跨度子組的4×2像素模塊，同時(shí)沿著跨度描繪。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

從包括沿離開(kāi)長(zhǎng)邊沿方向的基元的頂點(diǎn)的像素模塊開(kāi)始描繪第一跨度組；和

在從包括沿離開(kāi)長(zhǎng)邊沿方向的基元的頂點(diǎn)的像素模塊開(kāi)始描繪第一跨度組之后，如果必要的話，從包括沿朝向長(zhǎng)邊沿方向的頂點(diǎn)的像素模塊開(kāi)始描繪第一跨度組。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

描繪第一跨度組后續(xù)的每個(gè)跨度組：

從與前面跨度組內(nèi)描繪的最后像素模塊相鄰的入口像素模塊沿離開(kāi)長(zhǎng)邊沿的方向開(kāi)始；和

在沿離開(kāi)長(zhǎng)邊沿的方向從入口像素模塊開(kāi)始描繪之后，如果必要的話，沿朝向長(zhǎng)邊沿的方向從入口像素模塊開(kāi)始描繪。

9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組的步驟進(jìn)一步包括：

描繪M×N像素模塊內(nèi)的每個(gè)跨度組。

10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中描繪M×N像素模塊內(nèi)的每個(gè)跨度組進(jìn)一步包括：

描繪4×2像素模塊內(nèi)的每個(gè)跨度組。

11.一種描繪基元的系統(tǒng)，包括：

成塊控制邏輯，將基元分為跨度組，每個(gè)跨度組包括2N跨度，并且進(jìn)一步將跨度組分為M×N像素模塊；和

一個(gè)或多個(gè)內(nèi)插器，從入口開(kāi)始沿著跨度以離開(kāi)基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組，以及接著從入口開(kāi)始沿著跨度以朝向基元長(zhǎng)邊沿的方向描繪每個(gè)跨度組。

12.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中一個(gè)或多個(gè)內(nèi)插器以螺旋順序沿著跨度逐塊描繪跨度組。

13.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中每個(gè)跨度組包括兩個(gè)N跨度子組以及在描繪不同跨度子組內(nèi)的至少一個(gè)模塊之前一個(gè)或多個(gè)內(nèi)插器描繪一個(gè)給定跨度子組內(nèi)的不多于兩個(gè)的模塊。

14.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括：

一個(gè)圖形適配器，包含成塊控制邏輯以及一個(gè)或多個(gè)內(nèi)插器。

15.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括：

一個(gè)數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，包括一個(gè)顯示器；以及

一個(gè)圖形適配器，處于數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)內(nèi)并包含成塊控制邏輯以及一個(gè)或多個(gè)內(nèi)插器，圖形適配器描繪用于顯示的基元。

16.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中一個(gè)或多個(gè)內(nèi)插器中的每一個(gè)包括在描繪跨度組內(nèi)的其他模塊之前將跨度組內(nèi)的入口模塊的像素和紋理信息推入其中的至少一個(gè)一次深度棧。