[發(fā)明專利]鋁合金表面化學紋理直接蝕刻的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 00117311.1
• 申請日: 2000-08-07
• 公開（公告）號: CN1279302A
• 公開（公告）日: 2001-01-10
• 發(fā)明（設計）人: 楊丁
• 申請（專利權）人: 楊丁
• 主分類號: C23F1/00
• 分類號: C23F1/00
• 代理公司: 深圳市專利服務中心
• 代理人: 張皋翔

1、一種鋁合金表面化學紋理直接蝕刻的方法包括：對被加工鋁合金進行常規(guī)化學除油、水洗、出光等工序，其特征在于：鋁合金表面高粗糙度砂狀或絲狀粗化面是通過酸性預處理工序后，再經堿性粗化處理工序來實現的，所述的酸性預處理工序是：將除油和水洗后的鋁合金置于一溫度為30-60度，由0．2-1．5摩爾氫離子／升、0．5-2．4氯離子／升、0-0．8摩爾過氧化氫／升、至少一種為0．06-0．4摩爾正電位金屬離子／升配制而成的酸性預處理液中，進行1-3分鐘的酸性預處理，使鋁合金表面形成密集的微坑蝕和一層由相對于鋁合金而言電位較正的密集的不連續(xù)的正電位金屬覆蓋層；所述的堿性粗化處理是：將經酸性預處理工序后的鋁合金置于一溫度為60-80度，由0．2-0．9摩爾氫氧化鈉／升、0-2摩爾無水碳酸鈉、至少含有一種0．1-1．6摩爾氧化性離子／升配制而成的堿性粗化液內進行2-4分鐘的堿性粗化處理，便可使鋁合金表面形成粗糙度較高的粗化面。

2、根據權利要求1所述的鋁合金表面化學紋理直接蝕刻的方法，其特征在于：金屬離子可以是：鋅離子、鐵離子、銅離子、汞離子、鉻離子、鎳離子等。

3、根據權利要求1所述的鋁合金表面化學紋理直接蝕刻的方法，其特征在于：所述的氧化性離子可以是：鉻酸根離子、氯酸根離子、過硫酸根離子、過硼酸根離子、硝酸根離子、鐵離子、銅離子等。