[發(fā)明專利]檢測光學(xué)系統(tǒng)光遠(yuǎn)場參量的方法及其裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00116390.6 | 申請日: | 2000-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN1274842A | 公開(公告)日: | 2000-11-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐文東;孫潔林;林強(qiáng);干福熹 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號: | G01N21/84 | 分類號: | G01N21/84;G01M11/02 |
| 代理公司: | 上海華東專利事務(wù)所 | 代理人: | 李蘭英 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測 光學(xué)系統(tǒng) 光遠(yuǎn)場 參量 方法 及其 裝置 | ||
本發(fā)明是一種檢測光學(xué)系統(tǒng)光遠(yuǎn)場參量的方法及其裝置。主要用于光學(xué)系統(tǒng)小光斑的檢測。
準(zhǔn)確地測量光遠(yuǎn)場(離被測樣品表面距離超過二分之一波長的區(qū)域,稱為光遠(yuǎn)場)的參量,可以更進(jìn)一步研究光學(xué)系統(tǒng)光遠(yuǎn)場的性質(zhì)和應(yīng)用,也可以準(zhǔn)確地判斷光源的特性或檢驗(yàn)光學(xué)系統(tǒng)的質(zhì)量。例如利用小光斑檢測判斷光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量或光學(xué)元件的加工質(zhì)量。在先技術(shù)中對小光斑的檢測主要有刀口掃描法(參見《光學(xué)測量》,北京工業(yè)學(xué)院蘇大圖主編,機(jī)械工業(yè)出版社,1988年6月,262頁)以及測量光學(xué)系統(tǒng)出瞳處的光強(qiáng)分布和波像差由計(jì)算得到小光斑的光強(qiáng)分布的方法(參見《光學(xué)車間檢驗(yàn)》,D.馬拉卡拉主編,機(jī)械工業(yè)出版社,1983年8月,47頁)。當(dāng)會(huì)聚光斑直徑的尺寸接近波長的一半(λ/2)時(shí),用上述的刀口掃描法無法精確地測量光斑的強(qiáng)度分布,后一種測量光學(xué)系統(tǒng)出瞳處的光強(qiáng)分布和波像差計(jì)算光斑的光強(qiáng)分布所用的測量裝置和測量過程很復(fù)雜,實(shí)時(shí)性和環(huán)境適應(yīng)性也很差。上述兩種測量都只能測量光場的強(qiáng)度分布,不能測量包括光場偏振態(tài)等在內(nèi)的完整信息。而在先技術(shù)中的近場光學(xué)顯微鏡僅用于光近場參量的測量(參見Near-FieldOptics:Microscopy,Spectroscopy,and?Surface?Modification?Beyond?theDiffraction?Limit,Eric?Betzig?and?Jay?K.Trautman,SCIENCE?Vol.257,10?July1992)。
本發(fā)明的目的是提供一種檢測被測樣品光遠(yuǎn)場參量的方法及其裝置,它將能夠彌補(bǔ)在先技術(shù)中的小光斑測量方法存在的缺陷、并能夠進(jìn)行高空間分辨高精度實(shí)時(shí)方便的光遠(yuǎn)場參量的測量。
本發(fā)明的檢測方法是采用將光纖端部帶小孔(最小孔徑達(dá)幾納米)的針尖置于被測樣品光遠(yuǎn)場位置上進(jìn)行掃描的光纖探針掃描法。具體步驟是:
<1>將光纖探針的針尖置于被測樣品的焦點(diǎn)上,進(jìn)行掃描,掃出焦點(diǎn)上光斑的大小;
<2>將光纖探針的針尖置于被測樣品焦點(diǎn)之前距焦點(diǎn)五倍焦深D距離的位置和置于焦點(diǎn)之后距焦點(diǎn)五倍焦深D距離的位置上進(jìn)行掃描,也就是說離開焦點(diǎn)為正負(fù)五倍焦深D的距離進(jìn)行掃描,掃出焦點(diǎn)前和焦點(diǎn)后的兩個(gè)光斑。焦深D=λ/NA2,其中λ為檢測時(shí)所使用光源的波長,NA為被測樣品的數(shù)值孔徑。
<3>根據(jù)上述獲得焦點(diǎn)上,焦點(diǎn)前和焦點(diǎn)后的三個(gè)光斑的圖樣,利用普通光學(xué)車間加工檢驗(yàn)的星點(diǎn)檢驗(yàn)法,判斷被測樣品的成像質(zhì)量。如圖4所示的流程圖。
上述本發(fā)明的方法所采用的裝置包括:光源1,在光源1發(fā)射光束G前進(jìn)的方向上,中心軸線O1O1與光源1的光軸OO相重合地置有光纖掃描器3,光纖掃描器3內(nèi)的中心軸線O1O1上置有光纖探針4,光纖探針4的針尖401對著光源1發(fā)射光束G前進(jìn)的方向,光纖探針4的光纖404將光束傳送到光電探測器6上,光電探測器6的輸出通過鎖相放大器7放大后輸入到計(jì)算機(jī)8上。計(jì)算機(jī)8對鎖相放大器7輸出的電信號進(jìn)行A/D轉(zhuǎn)換與采集,再經(jīng)圖像處理后顯示測量結(jié)果的光遠(yuǎn)場分布狀況(三維的或二維的)。光纖掃描器3通過高壓放大器5與計(jì)算機(jī)8相連。也就是說,計(jì)算機(jī)8控制高壓放大器5的高壓輸出到光纖掃描器3上,從而計(jì)算機(jī)8控制光纖掃描器3的掃描。測量時(shí),被測樣品2置于光源1與光纖掃描器3之間,如圖1和圖3所示。
所說的光纖掃描器3具有三維掃描方向,它包括掃描器主體303,掃描器主體303置于帶上下運(yùn)動(dòng)馬達(dá)301和左右移動(dòng)馬達(dá)304的支架302內(nèi),支架302置于帶前后運(yùn)動(dòng)馬達(dá)306的導(dǎo)軌305上。如圖2所示。
所說的掃描器主體303包括筒壁上帶有穿線孔3038的圓筒3035,圓筒3035的前端有針尖保護(hù)罩3033,圓筒3035的后端有后保護(hù)罩3037,圓筒3035內(nèi)與圓筒3035同中心軸線O1O1的置有細(xì)圓筒3036,圓筒3035壁的兩端面是凹凸形,在圓筒3035前端的凹端面內(nèi)固定有與圓筒3035同中心軸線O1O1的壓電陶瓷掃描管3034,壓電陶瓷掃描管3034前端上套有絕緣環(huán)3032,蓋在絕緣環(huán)3032前端上有軟鐵罩3031。上述掃描器主體303內(nèi),前端的針尖保護(hù)罩3033,軟鐵罩3031,細(xì)圓筒3036至后端的保護(hù)罩3037均共中心軸線O1O1地開有供光纖探針4穿過的中心通孔。如圖3所示。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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