[發(fā)明專(zhuān)利]衰減相移掩模及其制作方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 00113046.3 | 申請(qǐng)日： | 2000-06-21 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1330287A | 公開(kāi)（公告）日： | 2002-01-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 候德勝;馮伯儒;孫方;張錦 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G03F7/00 | 分類(lèi)號(hào)： | G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國(guó)科學(xué)院成都專(zhuān)利事務(wù)所 | 代理人： | 張一紅,王慶理 |
| 地址： | 61020*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 衰減 相移 及其 制作方法 | ||
1.一種衰減相移掩模，其特征為以基片上的光致抗蝕劑膜層構(gòu)成單層膜結(jié)構(gòu)。這種單層膜結(jié)構(gòu)的光致抗蝕劑膜層對(duì)入射光同時(shí)起衰減和相移的作用，光致抗蝕劑膜層的厚度應(yīng)滿足的條件為：使入射光的透過(guò)率為5～20％；相移度為180度或其奇數(shù)倍。
2.一種制作權(quán)利要求1所述的衰減相移掩模的方法，其特征在于采用下列步驟：
根據(jù)曝光波長(zhǎng)選擇玻璃或石英等材料制作透明基片；
用選用的光致抗蝕劑分別對(duì)幾個(gè)實(shí)驗(yàn)基片，按計(jì)算出的相移值為180度及其奇數(shù)倍的幾個(gè)不同膜層厚度值做實(shí)際勻膠，形成對(duì)入射光同時(shí)起衰減和相移作用的單層膜；
測(cè)定已勻膠后的實(shí)驗(yàn)基片的抗蝕劑單層膜的透過(guò)率，在透過(guò)率為5～20％的允許范圍內(nèi)，按照取值盡量小，且能均勻涂敷的條件，確定抗蝕劑單層膜的最佳厚度；
在正式基片上用選擇的光致抗蝕劑按最佳厚度勻膠，再經(jīng)前烘處理，制成衰減相移掩?；澹?/p>
對(duì)衰減相移掩?；迤毓?，顯影，清洗，烘干后，制成有圖形的實(shí)用衰減相移掩模。
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