[發(fā)明專利]用于生產(chǎn)鄰苯二甲酸酐的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00109645.1 | 申請日: | 2000-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN1280979A | 公開(公告)日: | 2001-01-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 奧野政昭;高橋典 | 申請(專利權)人: | 株式會社日本觸媒 |
| 主分類號: | C07C63/16 | 分類號: | C07C63/16;C07C51/265 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 胡交宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 生產(chǎn) 二甲 酸酐 方法 | ||
1.一種使用一個或多個固定床反應器,通過用鄰-二甲苯,或萘,或兩者與一種含氧氣體進行氣-相催化氧化反應生產(chǎn)鄰苯二甲酸酐的方法,
其中,所說的氣相催化反應是在三個或更多個單獨的催化劑層中進行的;
鄰-二甲苯,或萘,或兩者在第一催化劑層的出口處的轉(zhuǎn)化率是30%至70%;和
鄰-二甲苯,或萘,或兩者在第二催化劑層的出口處的轉(zhuǎn)化率是70%或更高。
2.按照權利要求1所述的方法,其中,由下式定義的ΔT在第一催化劑層中為0.35至0.85℃/(g/Nm3),在第二催化劑層中為0.45至1.20℃/(g/Nm3):
ΔT=(HS-M)/W其中HS是在每個單獨的催化劑層中的熱點溫度(℃),M是每個單獨的催化劑層被保持的溫度(℃),W是在標準溫度和壓力下相對于1立方米的含氧氣體的鄰二甲苯和萘的總量(g)。
3.按照權利要求1所述的方法,其中,在每個單獨的催化劑層中使用的每種催化劑含有氧化釩和氧化鈦。
4.按照權利要求3所述的方法,其中,所說的催化劑還含有鈮;磷;銻;和至少一種選自鈉,鉀,銣,銫,和鉈的元素。
5.按照權利要求1所述的方法,其中,在每種單獨的催化劑層中的裝填的每種催化劑是被含載在一種惰性載體上的,并且所說的被含載的催化劑的裝填方式是,每個單獨的催化劑層的孔隙率以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞減。
6.按照權利要求3所述的方法,其中,在每個單獨的催化劑層中裝填的每種催化劑是被含載在一種惰性載體上的,并且所說的被含載的催化劑的含載率以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞增。
7.按照權利要求3所述的方法,其中,每種單獨的催化劑層含有每種催化劑和一種惰性物質(zhì)的混合物,所說的惰性物質(zhì)在所說的混合物中的含量以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞減。
8.按照權利要求4所述的方法,其中,每個單獨的催化劑層中使用的每種催化劑的磷含量以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞增。
9.按照權利要求4所述的方法,其中,在每個單獨的催化劑層中所說的鈉,鉀,銫,銣,和鉈的總量以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞減。
10.按照權利要求9所述的方法,其中,在每種單獨的催化劑層中的裝填的每種催化劑是被含載在一種惰性載體上的,并且所說的被含載的催化劑的裝填方式是,每個單獨的催化劑層的孔隙率以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞減。
11.按照權利要求9所述的方法,其中,在每個單獨的催化劑層中裝填的每種催化劑是被含載在一種惰性載體上的,并且所說的被含載的催化劑的含載率以所說的第一催化劑層至隨后的催化劑層的順序遞增。
12.按照權利要求1所述的方法,其中,所說的每個單獨的催化劑層被保持的熱傳遞介質(zhì)的溫度以所說的第一催化層至隨后的催化層的順序遞增。
13.按照權利要求1所述的方法,其中使用一個單一的反應器,并且每個單獨的催化劑層被裝填在所說的反應器中。
14.按照權利要求1所述的方法,其中使用了多個反應器,并且在所說的單獨的反應器中形成的多個催化劑層相互連接,其連接方式使第一催化劑層的出口處鄰-二甲苯,或萘,或兩者的轉(zhuǎn)化率為30%至70%,并且第二催化劑層的出口處鄰-二甲苯,或萘,或兩者的轉(zhuǎn)化率為70%或更高。
15.一種使用一個或多個固定床反應器,通過用鄰-二甲苯,或萘,或兩者與一種含氧氣體進行氣-相催化氧化反應生產(chǎn)鄰苯二甲酸酐的方法,其中
所說的氣相催化反應是在三個單獨的催化劑層中進行的;
鄰-二甲苯,或萘,或兩者在第一催化劑層的出口處的轉(zhuǎn)化率是30%至70%;和
鄰-二甲苯,或萘,或兩者在第一催化劑層之后的第二催化劑層的出口處的轉(zhuǎn)化率是70%或至95%;和
鄰-二甲苯,或萘,或兩者在第二催化劑層之后的第三催化劑層的出口處的轉(zhuǎn)化率是99%或更高。
16.按照權利要求15所述的方法,其中,由下式定義的ΔT在第一催化劑層中為0.35至0.85℃/(g/Nm3),在第二催化劑層中為0.45至1.20℃/(g/Nm3),在第三催化劑層中為0.25至0.70℃/(g/Nm3):
ΔT=(HS-M)/W其中HS是在每個單獨的催化劑層中的熱點溫度(℃),M是每個單獨的催化劑層被保持的溫度(℃),W是在標準溫度和壓力下相對于1立方米的含氧氣體的鄰二甲苯和萘的總量(克)。
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