[發明專利]在襯底表面上淀積膜的方法和由該方法制造的襯底

無效

• 申請號: 00108625.1
• 申請日: 2000-04-22
• 公開（公告）號: CN1271784A
• 公開（公告）日: 2000-11-01
• 發明（設計）人: 安崎利明;荻野悅男;豐島隆之
• 申請（專利權）人: 日本板硝子株式會社
• 主分類號: C23C14/40
• 分類號: C23C14/40;C23C14/06
• 代理公司: 柳沈知識產權律師事務所
• 代理人: 范明娥

1.一種在襯底表面上淀積膜的方法，它包括：在能夠制備具有減壓的大氣的真空裝置中緊靠著安放一對陰極，給陰極提供電壓，同時交替地轉換其極性，以使得當陰極之一被用作負的或正的電極時，另一個陰極分別被用作正的或負的電極，在分別安置在二個陰極上的靶上產生輝光放電，并且，同時用由輝光放電產生的正離子轟擊靶，由此，在襯底的表面上濺射包含靶材料的涂敷膜，

其中，安放在陰極之一上的靶的材料不同于安放在另一個陰極上的靶的材料，并且，淀積在襯底表面上的膜包括二種靶材料。

2.如在權利要求1中所述的在襯底表面上淀積膜的方法，其中，成對的陰極是平面陰極，它們被這樣安置：陰極之一的較長邊平行于另一個陰極的較長的邊，并且，襯底按照以垂直于陰極的較長邊的方向橫過陰極的方式通過陰極的前面，因此，淀積的涂敷膜在厚度方向上相對于每一種不同的靶材料的濃度而言具有濃度梯度。

3.如在權利要求1中所述的在襯底表面上淀積膜的方法，其中，二個陰極要安排成這樣：使一個被另一個圍繞，因此，淀積的涂敷膜中的不同的靶材料以兩者的混合物的形式存在。

4.如在權利要求1、2或3中所述的在襯底表面上淀積膜的方法，其中，每一種靶材料是金屬。

5.如在權利要求1、2或3中所述的在襯底表面上淀積膜的方法，其中，每一種靶材料是導電的金屬氧化物。

6.一種具有反射涂層的襯底，該襯底包括透明襯底和形成在其上的兩層涂層，這兩涂層包括用權利要求4或5的方法淀積的二氧化硅膜和二氧化鈦膜，從而這兩層涂層具有圍繞層間的邊界的組分的梯度。