[發(fā)明專利]一種在密封玻璃基板上制作構(gòu)件的工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00107536.5 | 申請日： | 2000-05-17 |
| 公開（公告）號： | CN1274939A | 公開（公告）日： | 2000-11-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 居伊·巴雷特 | 申請（專利權(quán)）人： | 湯姆森等離子體公司 |
| 主分類號： | H01J9/26 | 分類號： | H01J9/26;H01J17/18;C03C27/06 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 劉曉峰 |
| 地址： | 法國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 密封 玻璃 基板上 制作 構(gòu)件 工藝 | ||
1.用于制作構(gòu)件的工藝，所述構(gòu)件包含第一和第二玻璃基板(2，3)，它們通過密封件(14)一個(gè)相對于另一個(gè)被密封，其特征在于環(huán)氧樹脂或聚乙烯丁酸酯(PVB)類的材料用于密封件(14)，且在第一和第二基板(2，3)被定位后在200℃到300℃之間的溫度下對其進(jìn)行處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于聚乙烯丁酸酯(PVB)被用做密封件(14)的材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的工藝，其特征在于在所述密封步驟期間，密封件(14)被加給上等于或大于1kg/cm2的壓強(qiáng)；最好大于2kg/cm2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于密封件(14)形成薄層，這個(gè)密封件的厚度相對其寬度被限定為該密封件內(nèi)外邊(14a，14b)之間的間隔，它是1∶n，其中n為20或更大，最好大于30；大于40尤好。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于基板(2、3)由堿石灰玻璃制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于還包含借助第一和第二基板(2，3)之間包含的空間的入口的機(jī)構(gòu)(16)對到此空間抽真空的步驟，在抽真空后，借助以環(huán)氧樹脂或聚乙烯丁酸酯(PVB)為基礎(chǔ)的材料密封這個(gè)入口的機(jī)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于在至少一個(gè)基板(2，3)上制得至少一個(gè)有機(jī)材料層(5，6，7)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的工藝，其特征在于在至少一個(gè)基板(2，3)上沉積至少一個(gè)有機(jī)材料的介電層(5，6)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的工藝，其特征在于使用冷沉積工藝在所述介電層(5，6)上沉積比如氧化鎂的介電材料薄層(51，61)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于在密封件(14)和至少一個(gè)基板(2，3)之間夾有至少一層有機(jī)材料層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于在至少一個(gè)基板(2，3)上沉積介電層(5，6)，通過選擇聚苯基喹喔啉(PPQ)或聚酰亞胺(PI)使所述層(5，6)制成為薄層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的工藝，其特征在于在300℃到400℃的溫度下使介電層(5，6)被穩(wěn)定。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的工藝，其特征在于使介電層(5，6)被形成具有3到20微米范圍的厚度；所述厚度最好從5到15微米。
14.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于將諸如鈦的氧化物的著色劑加入到用于形成介電層(5，6)的材料中。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于將包含玻璃微粒的填加物加入到用于形成介電層(5，6)的材料中。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于還包含制作由至少一個(gè)基板(3)所帶的隆起部件，比如在等離子體面板的情況下為擋條(7)的步驟，這些元件由無需在高于400℃溫度下焙燒的材料制成。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的工藝，其特征在于所述用于制成隆起部件(7)的材料為聚酰亞胺。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的工藝，其特征在于為了調(diào)整顏色和/或蠕變強(qiáng)度，給用于制作隆起部件(7)的所述材料加入至少一種礦物填加劑。
19.根據(jù)權(quán)利要求16至18中任一項(xiàng)所述的工藝，其特征在于把包含玻璃微粒的填加劑加入到構(gòu)成隆起部件(7)的材料中。
20.一種等離子體面板，其特征在于使用權(quán)利要求1至19中任一項(xiàng)工藝制作。
21.一種等離子體面板，它包含第一和第二基板(2，3)，它們被密封件(14)所密封，其特征在于密封件(14)由環(huán)氧樹脂或聚乙烯丁酸酯(PVB)類材料制成。
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