[發(fā)明專利]介質(zhì)濾波器、介質(zhì)雙工器和通信設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00106432.0 | 申請日: | 2000-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN1269617A | 公開(公告)日: | 2000-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 岡田貴浩;石原甚誠;加藤英幸 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H01P1/20 | 分類號: | H01P1/20 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 沈昭坤 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 介質(zhì) 濾波器 雙工器 通信 設(shè)備 | ||
1.一種介質(zhì)濾波器,其特征在于包含:
介質(zhì)塊;
多個設(shè)置在所述介質(zhì)塊中的內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔;
設(shè)置在所述內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的內(nèi)壁上的內(nèi)部導(dǎo)體;及
設(shè)置在所述介質(zhì)塊的外部表面上的外部導(dǎo)體,所述外部導(dǎo)體設(shè)置得使具有一個開路的表面作為所述內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的開路表面,并具有另一個開路的表面作為短路表面;
其中,內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的剖面形狀在從所述開路表面到所述短路表面的范圍內(nèi)基本上是恒定的,并在至少一個所述內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的中心軸的間部分設(shè)置臺階。
2.一種介質(zhì)濾波器,其特征在于包含:
介質(zhì)塊;
設(shè)置在所述介質(zhì)塊中的多個內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔;
設(shè)置在內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的內(nèi)壁上的內(nèi)部導(dǎo)體,所述內(nèi)部導(dǎo)體在所述孔的內(nèi)壁上具有開口端;及
設(shè)置在介質(zhì)塊的外部表面上的外部導(dǎo)體;
其中,內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的剖面的形狀從所述孔的一個開路表面到另一個開路表面的范圍內(nèi)大致上是恒定的,并且在至少一個所述內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的中心軸的中間部分設(shè)置臺階。
3.如權(quán)利要求1或2所述的介質(zhì)濾波器,其特征在于每一個內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔具有方形橫切面。
4.如權(quán)利要求1到3所述的任一介質(zhì)濾波器,其特征在于比值d/D是0.2-0.4,其中D表示介質(zhì)塊短側(cè)方向的寬度,d表示內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的寬度。
5.如權(quán)利要求1到4所述的任一介質(zhì)濾波器,其特征在于相對于內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的縱向的中心,臺階的位置更加接近于一個開路表面,從所述臺階到內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的另一個開路表面的范圍內(nèi)的內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的中心軸與所述內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔相鄰的內(nèi)部導(dǎo)體形成的孔的中心軸之間的間隔基本上是每一個中心軸和相應(yīng)的外部導(dǎo)體之間的間隔的兩倍。
6.一種介質(zhì)雙工器,其特征在于包含多個如權(quán)利要求1到5任一所述的介質(zhì)濾波器,所述介質(zhì)濾波器形成在單個介質(zhì)塊中。
7.一種通信設(shè)備,其特征在于包含如權(quán)利要求1到5任一所述的介質(zhì)濾波器或如權(quán)利要求6所述的介質(zhì)雙工器。
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