[發明專利]形成透明導電膜的方法以及采用該方法形成的透明導電膜無效
| 申請號： | 00106012.0 | 申請日： | 2000-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN1269609A | 公開（公告）日： | 2000-10-11 |
| 發明（設計）人： | 和田俊司;矢川博士;峰尾元久;青木裕一;筑后了治;吉井明彥 | 申請（專利權）人： | 日本板硝子株式會社;住友重機械工業株式會社 |
| 主分類號： | H01L33/00 | 分類號： | H01L33/00;G02F1/133;H01B5/14 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 形成 透明 導電 方法 以及 采用 | ||
【權利要求書】：
1.一種制造透明導電膜的方法，包括以下步驟：
1)將置于陽極相對位置的基片的溫度設置在不高于130℃；
2)由構成陰極的放電等離子體發生裝置生成等離子束，將該等離子束引導到所述陽極，從而使容納在陽極中的蒸發材料蒸發并且使被蒸發材料的微粒離子化，由此在基片的表面上形成透明導電膜；且，
3)將由此形成的透明導電膜置于不低于180℃的溫度下進行熱處理。
2.如權利要求1所述的方法，其中，所述步驟3)中熱處理溫度的上限為240℃。
3.如權利要求1所述的方法，其中，所述步驟3)中熱處理所進行的時間為30至60分鐘。
4.一種如權利要求1所述的方法形成的透明導電膜，其中，該透明導電膜具有230μΩ·cm或更小的比電阻和0.35GPa或更低的膜壓應力。
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