[發明專利]用于改善臨界尺寸控制的抗反射涂層無效
| 申請號： | 00104809.0 | 申請日： | 2000-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN1269532A | 公開（公告）日： | 2000-10-11 |
| 發明（設計）人： | D·特本;G·Y·李;Z·盧 | 申請（專利權）人： | 因芬尼昂技術北美公司 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永,王忠忠 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 改善 臨界 尺寸 控制 反射 涂層 | ||
【權利要求書】：
1.一種減小平版印刷中抗蝕劑反射率的方法，包括：
在襯底上淀積抗反射涂層(ARC)；及
在ARC上淀積抗蝕層，
其中ARC包括第一和第二部分，第一部分以吸收模式起作用，第二部分具有能夠減小第一部分和抗蝕劑間折射率差的折射率。
2.如權利要求1所述的方法，其中第一ARC部分淀積于襯底上，第二ARC部分淀積于第一ARC部分上。
3.如權利要求2所述的方法，其中第一ARC部分具有至少為0.2的消光系數。
4.如權利要求1所述的方法，其中第二ARC部分是無機ARC。
5.如權利要求4所述的方法，其中第二ARC部分的折射率介于第一ARC部分和抗蝕劑的折射率之間。
6.如權利要求1所述的方法，其中第二ARC部分具有漸變的折射率，其中第一ARC部分下表面處的漸變折射率約等于第一ARC部分的折射率，第二ARC部分上表面處的漸變折射率約等于抗蝕劑的折射率。
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