[發(fā)明專利]衍射式防偽標簽及其制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00104136.3 | 申請日: | 2000-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN1313579A | 公開(公告)日: | 2001-09-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 呂英宗;林正峰;黎邦;黃白萍;田萬頂;林晃嚴 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業(yè)技術研究院 |
| 主分類號: | G09F3/00 | 分類號: | G09F3/00;G02B27/42;B42D15/10 |
| 代理公司: | 柳沈知識產(chǎn)權律師事務所 | 代理人: | 李曉舒 |
| 地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 衍射 防偽 標簽 及其 制作方法 | ||
1.一種衍射式防偽標簽,其中至少包括:
一裸眼識別元件,可以顯現(xiàn)影像;以及
一衍射式光學元件,與該裸眼識別元件并列連接,可供鑒識。
2.如權利要求1所述的衍射式防偽標簽,其中該裸眼識別元件包括全息圖。
3.如權利要求1所述的衍射式防偽標簽,其中該衍射式光學元件包括非光柵衍射式光學元件。
4.如權利要求1所述的衍射式防偽標簽,其中該衍射式光學元件包括線性光柵。
5.如權利要求1所述的衍射式防偽標簽,其中該衍射式光學元件包括非光柵衍射式光學元件與線性光柵的組合。
6.一種衍射式防偽標簽,其中至少包括:
多個裸眼識別區(qū)塊,可以顯現(xiàn)影像;以及
多個衍射式元件區(qū)塊,與該各裸眼識別區(qū)塊以畫素交錯形式排列組合,可供鑒識。
7.如權利要求6所述的衍射式防偽標簽,其中每一衍射式元件區(qū)塊包括非光柵衍射式光學元件。
8.如權利要求6所述的衍射式防偽標簽,其中每一衍射式元件區(qū)塊包括線性光柵。
9.如權利要求6所述的衍射式防偽標簽,其中每一衍射式光學元件區(qū)塊包括非光柵衍射式光學元件與線性光柵的組合。
10.一種衍射式防偽標簽的制作方法,至少包括下列步驟:
形成一裸眼識別元件;
形成一衍射式光學元件;以及
將該裸眼識別元件與該衍射式光學元件以并列方式組合。
11.如權利要求10所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中形成該裸眼識別元件的方法包括全息拍攝法。
12.如權利要求10所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中形成該裸眼識別元件的方法包括點矩陣干涉法。
13.如權利要求10所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中形成該裸眼識別元件的方法包括光刻術。
14.如權利要求10所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中形成該衍射式光學元件的方法包括光刻術。
15.一種衍射式防偽標簽的制作方法,至少包括下列步驟:
提供一基材;以及
在該基材上形成多個裸眼識別區(qū)塊與多個衍射式元件區(qū)塊,且該各裸眼識別區(qū)塊與該各衍射式元件區(qū)塊以畫素交錯方式排列組合。
16.如權利要求15所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中形成該各裸眼識別區(qū)塊與該各衍射式元件區(qū)塊的方法包括光刻。
17.一種衍射式防偽標簽母版的制作方法,至少包括下列步驟:
形成一裸眼識別元件制作母版;
形成一衍射式光學元件制作母版;以及
使該裸眼識別元件制作母版與該衍射式光學元件制作母版的表面高度相同,并將該裸眼識別元件制作母版與該衍射式光學元件制作母版接合。
18.如權利要求17所述的衍射式防偽標簽母版的制作方法,其中將該裸眼識別元件制作母版與該衍射式光學元件制作母版接合的方法包括全息圖接版技術。
19.一種衍射式防偽標簽的制作方法,至少包括下列步驟:
形成一裸眼識別元件制作母版;
形成一衍射式光學元件制作母版;
使該裸眼識別元件制作母版與該衍射式光學元件制作母版的表面高度相同,并將該裸眼識別元件制作母版與該衍射式光學元件制作母版接合,形成一防偽標簽制作母版;以及
以該防偽標簽制作母版壓印一基材,形成一防偽標簽。
20.如權利要求19所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中將該裸眼識別元件制作母版與該衍射式光學元件制作母版接合的方法包括全息圖接版技術。
21.如權利要求19所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中壓印該基材上形成該防偽標簽的方法包括熱壓印。
22.如權利要求19所述的衍射式防偽標簽的制作方法,其中壓印該基材上形成該防偽標簽的方法包括滾壓。
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