[發明專利]過載繼電器中使用的磁通集中罩無效
| 申請號: | 00103887.7 | 申請日: | 2000-03-10 |
| 公開(公告)號: | CN1267076A | 公開(公告)日: | 2000-09-20 |
| 發明(設計)人: | 庫爾特·V·埃克羅斯;詹姆斯·A·貝克爾;簡·J·沃克 | 申請(專利權)人: | 尹頓公司 |
| 主分類號: | H01H75/00 | 分類號: | H01H75/00;H01H71/02 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 張祖昌 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 過載 繼電器 使用 集中 | ||
1.一種磁通集中罩(94),它包括:
一個具有多個極(130a,130b,130c)和多個導體孔(103)的帶槽層(96),每個導體孔(103)能夠穿過其接受一導體(16a,16b,16c),并且包括一系列極屏蔽槽(144a,144b),所述極屏蔽槽至少部分地位于導體孔(103)之間,每個極(130a,130b,130c)在包圍每個導體孔(103)的層上的一個內部磁通通路部分(141);
其中,每個導體(16a,16b,16c)產生的磁通被集中在每個極(130a,130b,130c)中,每個極產生的雜散磁通基本被極屏蔽槽(144a,144b)屏蔽于相鄰極的內部磁通通路部分(141)。
2.如權利要求1所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)包括在每個極(130a,130b,130c)內的氣隙(132a,132b,132c),所述氣隙能夠接受磁通傳感器(98a,98b,98c),所述氣隙(132a,132b,132c)沿內部磁通通路部分(141)設置,并與導體孔(103)連為整體;
極屏蔽槽(144a,144b)減少了進入相鄰極(130b)的內部磁通通路部分(141)的一個極(130a)的雜散磁通以防止雜散磁通被相鄰極(130b)的磁通傳感器(98b)檢測。
3.如權利要求1所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)是由具有比空氣低的磁阻的材料構制的。
4.如權利要求1所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)是由含鐵材料構制的。
5.如權利要求4所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述含鐵材料是鋼。
6.如權利要求1所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層是沖壓制成的。
7.如權利要求1所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層是疊層的。
8.如權利要求2所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述磁通傳感器(98)是霍爾傳感器。
9.如權利要求1所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)連接于過載繼電器(14)且設置在其內。
10.如權利要求2所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述磁通傳感器(98)連接于用于向接觸器(12)提供電力的印刷電路板(92)且與其配合工作。
11.一種磁通集中罩(94),它包括多個帶槽層(96),每個帶槽層(96)具有相應于第一(130a)、第二(130b)和第三(130c)極的第一、第二和第三導體孔(103)。每個導體孔(103)能夠穿過其接受一導體(16),并且具有一對基本為直線的極屏蔽槽(144),每個直線極屏蔽槽(144)至少部分地位于導體孔(103)之間,每個極(130)具有圍繞每個導體孔(103)的內部磁通通路部分(141),并具有包圍每個內部磁通通路部分(141)的成形極屏蔽槽(142);以及
在每個極(130)中的導體(16)產生的磁通被集中在每個極(130)中,一個極(130)的導體(16)產生的雜散磁通被基本呈直線的極屏蔽槽(144)和成形極屏蔽槽(142)基本屏蔽于另一極(130)的內部磁通通路部分(141)。
12.如權利要求11所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)包括在每個極(130)內能夠接受磁通傳感器(98)的氣隙(132),所述氣隙(132)沿內部磁通通路部分(141)設置,并與導體孔(103)連為整體。
極屏蔽槽(142)減少進入相鄰極(130)的內部磁通通路部分(141)的一個極(130)的雜散磁通,以防止雜散磁通被相鄰極(130)的磁通傳感器(98)檢測。
13.如權利要求11所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)是由具有比空氣低的磁阻的材料構制的。
14.如權利要求11所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述帶槽層(96)是由含鐵材料構制的。
15.如權利要求14所述的磁通集中罩(94),其特征在于:所述含鐵材料是鋼。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于尹頓公司,未經尹頓公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/00103887.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





