[發明專利]電子束光刻方法及其裝置

無效

• 申請號: 00103516.9
• 申請日: 2000-03-24
• 公開（公告）號: CN1271176A
• 公開（公告）日: 2000-10-25
• 發明（設計）人: 中島謙
• 申請（專利權）人: 日本電氣株式會社
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;H01L21/30;G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱進桂

1.一種用于利用電子束曝光和光刻所需圖案的電子束光刻方法，其中包括如下步驟：

(a)在條紋連接邊界區域中形成多個精度估計圖案和一所需圖案，以形成一個電子束掩膜；

(b)用電子束掩膜光刻圖案；

(c)用精度估計圖案測量曝光條紋的連接誤差；

(d)用電子束曝光這些圖案；以及

(e)檢查已經被曝光的圖案的連接。

2.根據權利要求1所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成方框標記作為精度估計圖案。

3.根據權利要求1所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成成對的形方框標記和方形方框標記作為精度估計圖案。

4.根據權利要求1所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成游標卡尺圖案作為精度估計圖案。

5.根據權利要求l所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成SCALPEL掩膜，該掩膜具有預定圖案和精度估計圖案。

6.根據權利要求l所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(b)中，包括該精度估計圖案的區域與該電子束掩膜相重合。

7.根據權利要求1所述的電子束光刻方法，

其特征在于，步驟(d)是步驟(c)的反饋步驟。

8.根據權利要求2所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成一個SCALPEL掩膜，該掩膜具有預定圖案和精度估計圖案。

9.根據權利要求2所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(b)中，包括該精確估計圖案的區域與該電子束掩膜重疊。

10.根據權利要求2所述的電子束光刻方法，

其特征在于，步驟(d)是步驟(c)的反饋步驟。

11.根據權利要求3所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成一個SCALPEL掩膜，該掩膜具有預定圖案和精度估計圖案。

12.根據權利要求3所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(b)中，包括該精確估計圖案的區域與該電子束掩膜重疊。

13.根據權利要求3所述的電子束光刻方法，

其特征在于，步驟(d)是步驟(c)的反饋步驟。

14.根據權利要求4所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(a)中，形成一個SCALPEL掩膜，該掩膜具有預定圖案和精度估計圖案。

15.根據權利要求4所述的電子束光刻方法，

其特征在于，在步驟(b)中，包括該精確估計圖案的區域與該電子束掩膜重疊。

16.根據權利要求4所述的電子束光刻方法，

其特征在于，步驟(d)是步驟(c)的反饋步驟。

17.一種用于利用電子束光刻圖案的電子束光刻裝置，其中包括：

用于在條紋連接邊界區域中形成多個精度估計圖案和所需圖案，以形成一個電子束掩膜的掩膜形成裝置；

用于利用電子束掩膜光刻圖案的光刻裝置；

用于利用精度估計圖案測量曝光條紋的連接誤差的測量裝置；

用于從所述測量裝置接收反饋數據和用該電子束曝光圖案的主曝光裝置；以及

用于檢查已經被曝光的圖案的連接的檢測裝置。

18.根據權利要求17所述的電子束光刻裝置，

其特征在于使用方框標記作為精度估計圖案。

19.根據權利要求17所述的電子束光刻裝置，

其特征在于使用成對的形方框標記和方形方框標記作為精度估計圖案。

20.根據權利要求17所述的電子束光刻方法，

其特征在于使用游標卡尺圖案作為精度估計圖案。