[發(fā)明專(zhuān)利]電子束曝光系統(tǒng)及其方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00103090.6
• 申請(qǐng)日: 2000-02-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1264850A
• 公開(kāi)（公告）日: 2000-08-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山下浩
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 日本電氣株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;G03F7/09;H01L21/027
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 劉曉峰

1.一種具有掩膜的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，該所述掩膜包含一個(gè)散射區(qū)和一個(gè)限制孔闌，該孔闌可控制通過(guò)掩膜的散射電子的量，所述系統(tǒng)包含：

第一限制孔闌，固定在交疊面或其附近，并具有一個(gè)中心開(kāi)孔和圍繞中心開(kāi)孔的閉合細(xì)長(zhǎng)開(kāi)孔；及

第二限制孔闌，其可沿光軸移動(dòng)并具有一個(gè)中心開(kāi)孔和圍繞中心開(kāi)孔的閉合細(xì)長(zhǎng)開(kāi)孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其特征在于掩膜包含由形成在可發(fā)射電子束膜上的電子束散射體構(gòu)成的圖形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其特征在于掩膜具有一個(gè)開(kāi)孔圖形，該圖形由在其比電子穿透深度薄的區(qū)域中的開(kāi)孔構(gòu)成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其特征在于包含：

限制孔闌改變件，其中設(shè)置或生產(chǎn)多個(gè)與圍繞中心開(kāi)孔的閉合細(xì)長(zhǎng)開(kāi)孔的尺寸不同的限制孔闌；及

一個(gè)機(jī)制，其可通過(guò)控制限制孔闌改變件而將多個(gè)限制孔闌中所需的一個(gè)孔闌作為第一限制孔闌設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)還包含：

限制孔闌(A)，其固定在光學(xué)系統(tǒng)中并只在其中心具有開(kāi)孔，用于代替第一限制孔闌；

限制孔闌改變件，其中設(shè)置或生產(chǎn)多個(gè)在其中心具有彼此不同尺寸開(kāi)孔的限制孔闌(B)，且開(kāi)孔大于限制孔闌(A)的外徑；及

一個(gè)機(jī)制，其可通過(guò)控制限制孔闌改變件而將多個(gè)限制孔闌(B)中所需的一個(gè)限制孔闌(B)設(shè)置在限制孔闌(A)的軸上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)包含：

第一限制孔闌改變件，其包含多個(gè)限制孔闌(A)，該孔闌只在它們的中心具有開(kāi)孔，且外徑彼此不同，用于代替第一限制孔闌；

第二限制孔闌改變件，其中設(shè)置或生產(chǎn)多個(gè)在其中心具有彼此不同尺寸開(kāi)孔的限制孔闌(B)，且開(kāi)孔大于限制孔闌(A)的外徑；及

一個(gè)機(jī)制，其可通過(guò)控制第一和第二限制孔闌改變件而將多個(gè)限制孔闌(A)中所需的一個(gè)限制孔闌(A)和將多個(gè)限制孔闌(B)中所需的一個(gè)限制孔闌(B)設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)中的同一個(gè)軸上。

7.一種具有掩膜的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，所述掩膜包含一個(gè)散射區(qū)和一個(gè)限制孔闌，該孔闌可控制通過(guò)掩膜的散射電子的量，其中該孔闌包含一個(gè)中心開(kāi)孔和一個(gè)圍繞中心開(kāi)孔的閉合細(xì)長(zhǎng)開(kāi)孔，該系統(tǒng)包含：

限制孔闌改變件，其中設(shè)置或生產(chǎn)多個(gè)與閉合細(xì)長(zhǎng)開(kāi)孔的尺寸不同的限制孔闌；及

一個(gè)機(jī)制，其可通過(guò)控制限制孔闌改變件而將多個(gè)限制孔闌中所需的一個(gè)孔闌設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)中。

8.一種散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其具有一個(gè)掩膜，該掩膜包含一個(gè)散射區(qū)和一個(gè)限制孔闌，該孔闌限制通過(guò)掩膜的散射電子的量，該系統(tǒng)還包含：

固定在光學(xué)系統(tǒng)中的并只在其中心具有開(kāi)孔的第一限制孔闌；

限制孔闌改變件，其中設(shè)置或生產(chǎn)多個(gè)在其中心具有彼此不同尺寸開(kāi)孔的第二限制孔闌，且開(kāi)孔大于第一限制孔闌的外徑；及

一個(gè)機(jī)制，其可通過(guò)控制限制孔闌改變件而將多個(gè)第二限制孔闌中所需的一個(gè)第二限制孔闌設(shè)置在第一限制孔闌的軸上。

9.一種散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)，其具有一個(gè)掩膜，該掩膜包含一個(gè)散射區(qū)和一個(gè)限制孔闌，該孔闌限制通過(guò)掩膜的散射電子的量，該系統(tǒng)還包含：

第一限制孔闌改變件，其包含多個(gè)第一限制孔闌，該孔闌只在它們的中心具有開(kāi)孔，且外徑彼此不同；

第二限制孔闌改變件，其中設(shè)置或生產(chǎn)多個(gè)在其中心具有彼此不同尺寸開(kāi)孔的第二限制孔闌，且開(kāi)孔大于第一限制孔闌的外徑；及

一個(gè)機(jī)制，其可通過(guò)控制第一和第二限制孔闌改變件而將多個(gè)第一限制孔闌中所需的一個(gè)第一限制孔闌和將多個(gè)第二限制孔闌中所需的一個(gè)第二限制孔闌設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)中的同一個(gè)軸上。

10.一種使用根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射角限制型電子束曝光系統(tǒng)的散射角限制型電子束曝光方法，該方法包含如下的步驟：

沿光軸移動(dòng)第二限制孔闌，只要限制孔闌不擋住電子束的與掩膜上圖形的最外邊周的圖案相對(duì)應(yīng)的軌跡的中心即可，以調(diào)節(jié)通過(guò)第一和第二限制孔闌的開(kāi)孔的散射電子的量，用于控制修正劑量，并在進(jìn)行圖形曝光的同時(shí)對(duì)鄰近效應(yīng)進(jìn)行修正。