[其他]固態閃爍體及其處理方法無效
| 申請號： | 88103386 | 申請日： | 1988-06-07 |
| 公開（公告）號： | CN88103386A | 公開（公告）日： | 1988-12-28 |
| 發明（設計）人： | 羅伯特·約瑟夫·里德納;埃多根·奧默爾·吉爾門;查理斯·戴維德·格里斯科維奇;多米尼克·安索尼·庫薩諾 | 申請（專利權）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號： | C04B35/50 | 分類號： | C04B35/50 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 公開了一種用于X射線照相的多晶陶瓷閃爍體，為減少上述閃爍體受X輻射時的輻射損傷，對其進行受控氧化退火處理，經如此處理的特殊陶瓷材料由具有立方晶系結構的含緊密燒結稀土摻雜氧化釓的金屬氧化物組成，所述陶瓷成分包括約5～50克分子百分比的Gd2O3，約0.5～12克分子百分比選自Eu2O3和Nd2O3的稀土活性氧化物和約0.0001～0.5克分子百分比至少一種選自Pr2O3和Tb2O3的余輝衰減劑，其余成分為Y2O3。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 固態 閃爍 及其 處理 方法 | ||
【主權項】：
1、一種多晶結構的、可由X射線激發的閃爍體，包括具有立方晶系結構的、燒結的稀土摻雜氧化釓-氧化釔陶瓷，該閃爍體經過了受控含氧環境下的退火處理，以減少在把上述X射線轉換成顯示圖象的過程中，受X輻射而產生的輻射損傷，所述陶瓷包括：大約5～50個克分子百分比的Gd2O2、大約0.05～12個克分子百分比的選自Eu2O3和Nd2O3的稀土活性氧化物和0.0001～0.5個克分子百分比的至少一種選自Pr2O3和Tb2O3的余輝衰減劑，上述成份的其余部分為y2O3。
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