[其他]濺射源用的充氣器無效
| 申請號： | 87212022 | 申請日： | 1987-08-18 |
| 公開（公告）號： | CN87212022U | 公開（公告）日： | 1988-05-11 |
| 發明（設計）人： | 王德苗;任高潮;陳抗生 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | B05C11/10 | 分類號： | B05C11/10 |
| 代理公司： | 浙江大學專利代理事務所 | 代理人： | 連壽金 |
| 地址： | 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一種能向陰極靶(8)靶面和工件表面分別噴射工作氣體和活性氣體的磁控濺射源用的充氣器，采用這種充氣器能使靶面免受污染，工作氣體利用率提高40％，薄膜中雜質含量降低20％，且不產生陰影。同通混合氣體的方案相比，濺射速率提高80％以上。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 充氣 | ||
【主權項】：
1、一種能向陰極靶表面和工件表面分別噴射工作氣體和活性氣體的磁控濺射源用的充氣器，其特征在于構成該充氣器的工作氣體充氣器A和活性氣體充氣器B安裝在濺射頭底盤[6]上，分別向靶面和工件[16]表面噴射工作氣體和活性氣體。
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