[其他]大分子物質(zhì)為單體源的等離子體聚合無效

申請?zhí)枺?/td>	87102738	申請日：	1987-04-15
公開（公告）號：	CN87102738A	公開（公告）日：	1988-12-21
發(fā)明（設(shè)計）人：	李榮志;朱鶴孫	申請（專利權(quán)）人：	北京工業(yè)學(xué)院
主分類號：	C23C14/12	分類號：	C23C14/12;B05D5/00
代理公司：	北京工業(yè)學(xué)院專利代理事務(wù)所	代理人：	顧映芬
地址：	北京市西郊***	國省代碼：	北京;11
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：	大分子凝集態(tài)物質(zhì)為單體源的等離子體聚合是用等離子體化學(xué)方法制備各種功能薄膜材料的新途徑。本發(fā)明和其他等離子體聚合不同的特征是采用平均分子量大于200的液、固態(tài)有機(jī)物作為單體源，以低級烷烴為工作氣進(jìn)行聚合。本發(fā)明給出了以固體石蠟(平均分子量400)為單體源，甲烷為工作氣的等離子體聚合的實例，其產(chǎn)物薄膜具有紅外、可見、紫外光透射率高，憎水性強(qiáng)，耐高溫，耐腐蝕的特點(diǎn)，可作為鹵化堿金屬紅外單晶和金、鋁等紅外可見光反射鏡的增透保護(hù)膜。
搜索關(guān)鍵詞：	大分子物質(zhì) 單體等離子體聚合
鉆瓜網(wǎng) 技術(shù)展會專利詞庫專利權(quán)人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【主權(quán)項】：

1、大分子物質(zhì)為單體源的等離子體聚合，其特征在于：固態(tài)或液態(tài)的、其平均分子量有機(jī)氟和有機(jī)硅大于200，烴類和其他大于150的有機(jī)物作為單體源，將其在真空、加熱和超聲波作用下汽化，汽化產(chǎn)物在低級烷烴(甲烷、乙烷、丙烷)等離子體作用下聚合，其聚合產(chǎn)物主要表現(xiàn)單體源物質(zhì)的結(jié)構(gòu)特征。

下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費(fèi)下載。

免登錄下載普通用戶下載升級VIP會員，免費(fèi)下載

該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京工業(yè)學(xué)院，未經(jīng)北京工業(yè)學(xué)院許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】

本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/patent/87102738/，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。

同類專利

專利分類

C 化學(xué)；冶金

C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理

免登錄下載普通用戶下載升級VIP會員，免費(fèi)下載

專利文獻(xiàn)下載

說明：

1、專利原文基于中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利說明書；

2、支持發(fā)明專利、實用新型專利、外觀設(shè)計專利（升級中）；

3、專利數(shù)據(jù)每周兩次同步更新，支持Adobe PDF格式；

4、內(nèi)容包括專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖、流程工藝圖或技術(shù)構(gòu)造圖；

5、已全新升級為極速版,下載速度顯著提升！歡迎使用！

請您登陸后，進(jìn)行下載，點(diǎn)擊【登陸】【注冊】