[其他]喇曼散射分析的測量裝置的吸附襯底無效
| 申請號： | 86201587 | 申請日： | 1986-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN86201587U | 公開（公告）日： | 1987-03-25 |
| 發明（設計）人： | 莫育俊;李秀英 | 申請（專利權）人： | 中國科學院物理研究所 |
| 主分類號： | G01N21/65 | 分類號： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 中國科學院物理研究所專利辦公室 | 代理人： | 高存秀,崔茹華 |
| 地址： | 北京市6*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 暫無信息 | 說明書： | 暫無信息 |
| 摘要： | 用于表面增強喇曼散射分析的測量裝置所專用的吸附襯底屬于表面分析技術和光譜技術領域。本實用新型是用適當顆粒的金屬粉末對銅片或鋁片進行機械拋光，獲得表面粗糙度為500和1000的銅質吸附襯底和鋁制吸附襯底。利用這種吸附襯底進行表面分析及痕跡物質的檢測均有很高的靈敏度，并且價格低廉。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 散射 分析 測量 裝置 吸附 襯底 | ||
【主權項】：
1、一種喇曼散射分析的測量裝置的吸附襯底，其特征在于：銅質吸附襯底表面粗糙度為500，和銀質吸附襯底表面粗糙度為1000。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院物理研究所，未經中國科學院物理研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/patent/86201587/，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：皮膚科檢測與治療多用器
- 下一篇：心電電腦分析儀
