[其他]喇曼散射分析的測量裝置的吸附襯底無效
| 申請號: | 86201587 | 申請日: | 1986-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN86201587U | 公開(公告)日: | 1987-03-25 |
| 發明(設計)人: | 莫育俊;李秀英 | 申請(專利權)人: | 中國科學院物理研究所 |
| 主分類號: | G01N21/65 | 分類號: | G01N21/65 |
| 代理公司: | 中國科學院物理研究所專利辦公室 | 代理人: | 高存秀,崔茹華 |
| 地址: | 北京市6*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 暫無信息 | 說明書: | 暫無信息 |
| 摘要: | 用于表面增強喇曼散射分析的測量裝置所專用的吸附襯底屬于表面分析技術和光譜技術領域。本實用新型是用適當顆粒的金屬粉末對銅片或鋁片進行機械拋光,獲得表面粗糙度為500和1000的銅質吸附襯底和鋁制吸附襯底。利用這種吸附襯底進行表面分析及痕跡物質的檢測均有很高的靈敏度,并且價格低廉。 | ||
| 搜索關鍵詞: | 散射 分析 測量 裝置 吸附 襯底 | ||
【主權項】:
1、一種喇曼散射分析的測量裝置的吸附襯底,其特征在于:銅質吸附襯底表面粗糙度為500,和銀質吸附襯底表面粗糙度為1000。
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