[其他]喇曼散射分析的測(cè)量裝置的吸附襯底無效

申請(qǐng)?zhí)枺?/td>	86201587	申請(qǐng)日：	1986-03-20
公開（公告）號(hào)：	CN86201587U	公開（公告）日：	1987-03-25
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	莫育俊;李秀英	申請(qǐng)（專利權(quán)）人：	中國(guó)科學(xué)院物理研究所
主分類號(hào)：	G01N21/65	分類號(hào)：	G01N21/65
代理公司：	中國(guó)科學(xué)院物理研究所專利辦公室	代理人：	高存秀,崔茹華
地址：	北京市6***	國(guó)省代碼：	北京;11
權(quán)利要求書：	暫無信息	說明書：	暫無信息
摘要：	用于表面增強(qiáng)喇曼散射分析的測(cè)量裝置所專用的吸附襯底屬于表面分析技術(shù)和光譜技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型是用適當(dāng)顆粒的金屬粉末對(duì)銅片或鋁片進(jìn)行機(jī)械拋光，獲得表面粗糙度為500和1000的銅質(zhì)吸附襯底和鋁制吸附襯底。利用這種吸附襯底進(jìn)行表面分析及痕跡物質(zhì)的檢測(cè)均有很高的靈敏度，并且價(jià)格低廉。
搜索關(guān)鍵詞：	散射分析測(cè)量裝置吸附襯底
鉆瓜網(wǎng) 技術(shù)展會(huì) 專利詞庫專利權(quán)人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【主權(quán)項(xiàng)】：

1、一種喇曼散射分析的測(cè)量裝置的吸附襯底，其特征在于：銅質(zhì)吸附襯底表面粗糙度為500，和銀質(zhì)吸附襯底表面粗糙度為1000。

下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會(huì)員可以免費(fèi)下載。

免登錄下載普通用戶下載升級(jí)VIP會(huì)員，免費(fèi)下載

該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院物理研究所，未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院物理研究所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】

本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/patent/86201587/，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。

同類專利

專利分類

G 物理

G01 測(cè)量；測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)

免登錄下載普通用戶下載升級(jí)VIP會(huì)員，免費(fèi)下載

專利文獻(xiàn)下載

說明：

1、專利原文基于中國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利說明書；

2、支持發(fā)明專利、實(shí)用新型專利、外觀設(shè)計(jì)專利（升級(jí)中）；

3、專利數(shù)據(jù)每周兩次同步更新，支持Adobe PDF格式；

4、內(nèi)容包括專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖、流程工藝圖或技術(shù)構(gòu)造圖；

5、已全新升級(jí)為極速版,下載速度顯著提升！歡迎使用！

請(qǐng)您登陸后，進(jìn)行下載，點(diǎn)擊【登陸】【注冊(cè)】