【主權項】：

1.用選擇性刻蝕在基底中制做窗口的方法，它包括用反應離子刻蝕側壁技術在基底上形成臺面的步驟，其特征在于下列步驟：將膜層淀積在所述基底的頂部和所述臺面的頂部，而不淀積在所述臺面的測壁上；用有選擇性腐蝕所述臺面的測壁而不腐蝕所述膜層的方法，將所述臺面及其頂部的所述膜層完全除去，這樣，所述膜層便只保留在除所述臺面之外的位置的基底頂部上；用膜層作為刻蝕掩模，有選擇地刻蝕所述基底，由此形成所述窗口。