[其他]清潔短路后的濺鍍室高壓陰極的方法和裝置無效
| 申請號： | 86105616 | 申請日： | 1986-07-26 |
| 公開（公告）號： | CN86105616A | 公開（公告）日： | 1987-04-22 |
| 發明（設計）人： | 克倫斯·加里·費弗爾 | 申請（專利權）人： | 西屋電氣公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 范本國 |
| 地址： | 美國賓*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 本發明涉及清除濺鍍室內濺鍍陰極上的短路積物，在正常時由DC電源提供足能產生和維持濺鍍等離子體的電能，清除短路積物時，首先中斷接到被短路的陰極上的該DC電源(60)，然后用輔助電源(72)供電，該電能足能蒸發該短路積物，但不足以激勵濺鍍等離子體。造成短路的積物被清除后，輔助電源被切斷，恢復接通DC電源。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 清潔 短路 濺鍍室 高壓 陰極 方法 裝置 | ||
【主權項】：
1、一種清除導電材料構成的短路積物的方法，由布置在一個濺鍍室中并受直流電源激勵的濺鍍陰極組件進行，該直流電源足能使濺鍍陰極組件建立和維持濺鍍等離子體，其特征為下列步驟：(a)遮斷從直流電流供給該陰極組件的直流功率，(b)對陰極組件提供足能蒸發所述的積物和足能建立并維持濺鍍等離子體的電源。
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