[其他]真空化學(xué)反應(yīng)設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86105600 | 申請日: | 1986-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN86105600A | 公開(公告)日: | 1987-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 麻蒔立男 | 申請(專利權(quán))人: | 日電阿尼爾瓦株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;C23C16/50;H01L21/302 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 吳大建,全菁 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 在一種真空化學(xué)反應(yīng)設(shè)備中,許多掛片座是從一掛片架徑向地伸展出來的。大量的基片安置在各個掛片座的幾乎整個表面上。每一個掛片座的形狀,從正視圖上看是一多邊形。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 化學(xué)反應(yīng) 設(shè)備 | ||
【主權(quán)項】:
1、一種真空化學(xué)反應(yīng)設(shè)備,包括:在真空條件下可存放許多待處理物件的真空室;把真空室內(nèi)部的壓力抽空到一預(yù)定的低壓力值的抽氣裝置;抽氣裝置完成抽空操作后,把一種反應(yīng)性的氣體導(dǎo)入真空室內(nèi),以便各個物件的表面能進行化學(xué)反應(yīng)的導(dǎo)氣裝置;將許多物件保持在真空室內(nèi)的物件保持裝置;將在真空室外的許多物件運送到位于真空室內(nèi)的物件保持裝置的傳輸裝置,其特征是:該物件保持裝置包括掛片架和從掛片架上伸展開來的許多掛片座,掛片座上有許多保持物件的支承構(gòu)件,以讓大量物件基本上掛滿掛片座的幾乎整個表面;該掛片架可在真空室內(nèi)移動,利用這一移動,至少有兩個被該物件支持構(gòu)件所支承的物件,可被輸送過既定的基本上是相同的平面;接受來自該物件支承構(gòu)件上至少兩個基本上是位于相同平面上的物件,并將其送到輸送裝置去的裝置。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日電阿尼爾瓦株式會社,未經(jīng)日電阿尼爾瓦株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/patent/86105600/,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
- 一種化學(xué)反應(yīng)設(shè)備及該設(shè)備在化學(xué)反應(yīng)中的應(yīng)用
- 化學(xué)反應(yīng)裝置以及化學(xué)反應(yīng)方法
- 一種聲學(xué)激勵促進化學(xué)反應(yīng)速率及效率的裝置
- 一種聲學(xué)激勵促進化學(xué)反應(yīng)速率及效率的裝置
- 能量存儲系統(tǒng)
- 化學(xué)反應(yīng)路徑獲取方法、裝置、電子設(shè)備及存儲介質(zhì)
- 化學(xué)反應(yīng)立體結(jié)構(gòu)模型生成方法、終端及可讀存儲介質(zhì)
- 一種化學(xué)反應(yīng)搜索方法及系統(tǒng)
- 一種數(shù)據(jù)處理方法、裝置及系統(tǒng)、圖形處理器
- 一種化學(xué)反應(yīng)搜索方法、裝置及系統(tǒng)、圖形處理器
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





