[其他]帶電粒子束曝光無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86105432 | 申請日： | 1986-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN86105432A | 公開（公告）日： | 1987-05-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 馬丁·弗爾德曼;馬丁·保羅·利普塞爾特 | 申請（專利權(quán)）人： | 美國電話電報公司 |
| 主分類號： | H01J37/00 | 分類號： | H01J37/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利代理部 | 代理人： | 鄧明 |
| 地址： | 美國紐約州*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 在曝光系統(tǒng)中應(yīng)用一種細(xì)長的帶電粒子的源(20)，以產(chǎn)生多個以線性陣列排列的聚焦電子(或離子)。使多束帶電粒子作跨過工件(10)的掃描(18)，以及利用可選擇地對所述粒子束的個別粒子束的消隱的方法，就能在工件上產(chǎn)生圖形。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 帶電 粒子束 曝光 | ||
【主權(quán)項】：
1、適用于有選擇性地使工件表面曝光的帶電粒子束曝光設(shè)備，所述設(shè)備其特征在于細(xì)長裝置(24)，它響應(yīng)帶電粒子，用于產(chǎn)生射向所述工件表面上的多個平行帶電粒子束(32)，細(xì)長的帶電粒子源(20)，它與第一所述裝置延伸至同一限度，使那里的粒子射到陣列上。
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