[其他]從襯底上去除薄膜的氣態(tài)方法和設備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86105419 | 申請日： | 1986-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN1005803B | 公開（公告）日： | 1989-11-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 羅伯特·S·布萊克伍德;雷克斯·L·比格斯塔夫;L·戴維斯·克萊門茨;C·林·克利夫林 | 申請（專利權）人： | FSI公司;得克薩斯儀器公司 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 楊鋼 |
| 地址： | 美國.明尼蘇*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 從襯底上去除至少部分薄膜的方法，保持環(huán)繞襯底的大氣在接近室溫和通常大氣壓力下，在襯底上通入干燥惰性稀釋氣體，通過通入水蒸汽覆蓋襯底和薄膜來預處理薄膜，在襯底上通入來自與水蒸汽發(fā)生源分開的發(fā)生源的水蒸汽和無水氟化氫氣體，繼續(xù)通入反應氣體流，典型為５至３０秒，直至去除控制量的薄膜，終止反應氣體流并繼續(xù)通入干燥惰性稀釋氣體終止薄膜去除。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 襯底 去除 薄膜 氣態(tài) 方法 設備 | ||
【主權項】：
1、一種包括把襯底曝露在囟化氫氣體及水分里，從襯底上去除至少部份薄膜的方法，其特征在于包括：-從分開的可控的發(fā)生器提供無水囟化氫氣體和水分，在薄膜的去除部分上，它們彼此起反應，-在襯底在受到流動的無水氟化氫作用之前、之后以及過程中，連續(xù)地流動的干燥的隋性稀釋劑氣體復蓋在襯底和薄膜上。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于FSI公司;得克薩斯儀器公司，未經(jīng)FSI公司;得克薩斯儀器公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/patent/86105419/，轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：電磁式離合器
- 下一篇：空氣調節(jié)裝置及方法
- 同類專利
- 專利分類
