[其他]涂敷光刻膠的方法無效
| 申請號： | 86103644 | 申請日： | 1986-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN86103644B | 公開（公告）日： | 1988-11-23 |
| 發明（設計）人： | 伊藤鐵男;田沼正之;込義之;門田和也;小林一成 | 申請（專利權）人： | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;H01L21/312 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 光刻工藝，包括在襯底上旋涂光刻膠并將掩膜圖形轉移到光刻膠上而后進行曝光，及在圖形被曝光后在襯底上形成該圖形。當光刻膠顯影圖形因涂敷光刻膠工藝中的參數的增加或減少而脈動變化時，將參數的值設置到與脈動的極值相符。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 方法 | ||
【主權項】：
1.一種涂敷光刻膠的方法，包括下列步驟：將光刻膠旋轉涂敷在襯底上，將掩膜圖形轉移到涂好的光刻膠膜上，而后對光刻膠膜進行曝光并將其顯影，從而在襯底上形成圖形，其特征在于還包括下列步驟；(a)測量具有各種厚度的光刻膠顯影圖形以找出所測得的寬度——厚度曲線的極值；(b)利用可響應所述光刻膠的厚度而變化的參數在襯底上形成光刻膠，所述參數設置到基本上與上述極值之一相應。
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