[其他]在流化催化裂化工藝中，尤其是用質進料的該工藝中催化劑注入的和裝置無效
| 申請號： | 86101021 | 申請日： | 1986-02-05 |
| 公開（公告）號： | CN86101021A | 公開（公告）日： | 1986-09-17 |
| 發明（設計）人： | 馬利昂·簡·露斯;希加德·簡·伯納德;迪馬·邁克爾 | 申請（專利權）人： | 托塔爾煉油和銷售公司 |
| 主分類號： | C10G47/30 | 分類號： | C10G47/30;C10G11/18;B01J8/24 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 吳大建,全菁 |
| 地址： | 法國巴黎*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 本發明是有關在催化裂化反應器——提升管(1)的底部和裂化進料注入區的下方注入和調整再生催化劑顆粒流的方法。按照本發明，從再生催化劑顆粒引入位置下方的反應器(1)內的(5)處注入小流量的第一部分流體，從再生催化劑顆粒進入區的較遠的上方的(8)處注入較高流量的第二部分流體。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 流化 催化裂化 工藝 尤其是 進料 催化劑 注入 裝置 | ||
【主權項】：
1、在催化裂化反應器--提升管底部和裂化進料注入區下方注入和調整再生催化劑顆粒流的方法，其特點是，在再生催化劑引入位置的下方向反應器中以低流量注入第一部份的流體，以保持催化劑流化床層稠密而均勻，床層的上部位于上述的催化劑引入區之上，在上述的催化劑稠密床層的上部的下方但在再生催化劑顆粒到達區域的上方以較大的流量注入第二部分的流體，以使第二部分氣體流注入部位的上方和進料注入區下方的催化劑顆粒形成均勻而稀釋的流化相。
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