[其他]電子顯微鏡制樣用真空鍍膜機(jī)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85202348 | 申請(qǐng)日： | 1985-06-13 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN85202348U | 公開(kāi)（公告）日： | 1986-05-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周賢才 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 南昌航空學(xué)院 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/24 | 分類號(hào)： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 江西省南昌*** | 國(guó)省代碼： | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 暫無(wú)信息 | 說(shuō)明書(shū)： | 暫無(wú)信息 |
| 摘要： | 一種用于制備電子顯微鏡樣品的真空鍍膜機(jī)。目前國(guó)內(nèi)外上述用途的真空鍍膜機(jī)都只能用電阻法加熱投影重金屬，電阻法不能有效地蒸發(fā)鎢、鉑等難蒸發(fā)材料。為解決鎢和鉑的蒸發(fā)問(wèn)題，采用在現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)中安裝一個(gè)低加速電壓、小功率的電子槍，達(dá)到了有效地蒸發(fā)鎢和鉑的目的。采用鎢投影的電子顯微鏡樣品的分辨率比用鉻投影高出四倍；用此法進(jìn)行鉑投影比電阻法鉑——碳投影有操作簡(jiǎn)便，成功率高、對(duì)樣品的熱損傷小等優(yōu)點(diǎn)。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電子顯微鏡 制樣用 真空鍍膜 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1、一種電子顯微鏡制樣用的真空鍍膜機(jī)，其特征是在現(xiàn)有的電鏡制樣真空鍍膜機(jī)中安裝一個(gè)電子槍，使具有電子束加熱的功能。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
