[其他]用橢圓儀監控多層介質膜的方法無效
| 申請號： | 85108747 | 申請日： | 1985-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN85108747A | 公開（公告）日： | 1987-06-17 |
| 發明（設計）人： | 沈繁宜;尚世弦;鄭東東 | 申請（專利權）人： | 北京師范大學 |
| 主分類號： | C23C14/54 | 分類號： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京師范大學專利事務所 | 代理人： | 劉守國,吳圣谷 |
| 地址： | 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一種鍍制多層光學薄膜的監控方法。采用橢圓偏振光測厚儀監控，真空鍍膜機鍍制。該方法的特征是可以方便地確定鍍制某層膜所需的參量φ值和△值，也能測知該層的實際折射率和幾何厚度(或光學厚度)。它適用于單層或多層介質膜，濾光片和寬帶膜，λ/4膜和非λ/4膜等，是很有前途的監控方法。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 橢圓 監控 多層 介質 方法 | ||
【主權項】：
1、一種鍍制多層光學薄膜的監控方法，在鍍膜機上安裝橢圓偏振光測厚儀，欲鍍制第m層時，先找出鍍制該層所需的ψ值和Δ值，然后將橢圓儀置于相應位置(例如消光式橢圓儀為A值和P值)，接著開鍍，當鍍到所需膜厚，橢圓儀將有顯示(例消光式橢圓儀表現為光點達到最暗)，然后停鍍，此膜即為所需的第m層膜，其特征在于找出第m層的ψ值和Δ值，不僅要考慮該層的折射率和幾何厚度，還要考慮已鍍的各層膜的折射率和幾何厚度以及基片的折射率，所依據的公式為
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