[其他]用于負型復制層曝光后的顯影劑和制作印刷版的工序以及該顯影劑的用途無效
| 申請號： | 85107915 | 申請日： | 1985-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN85107915A | 公開（公告）日： | 1986-10-01 |
| 發明（設計）人： | 格哈德·馬克;伯吉特·馬勒;古恩特·扎格;沃納·弗拉斯 | 申請（專利權）人： | 赫徹斯特股份公司 |
| 主分類號： | G03C5/30 | 分類號： | G03C5/30;G03F7/08 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 王杰,張元忠 |
| 地址： | 聯邦德國62*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發明涉及用于負型感光復制層的顯影劑。顯影劑由水、有機溶劑、表面活性劑、堿性物質、絡合劑、緩沖劑、乳化劑、正鏈烷酸組成。本發明還涉及使用該顯影劑混合物的印刷版制作工序。使用該顯影劑除能滿足快速良好的顯影效果及顯影裝置和生態學傳統要求外，還能消除顯影中形成斑點和微絲的麻煩。該顯影劑不僅普遍適用于不含粘合劑復制層，還普遍適用于含粘合劑的復制層。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 用于 復制 曝光 顯影劑 制作 印刷 工序 以及 用途 | ||
【主權項】：
1、在基片上涂布的負型復制層，曝光后的顯影劑是由一種混合物構成，其特征在于它含有水，至少一種有機溶劑，至少一種堿性物質，至少一種絡合劑以及至少一種表面活性劑，其中所用的表面活性劑具有陰離子結構，顯影劑里還含有至少一種乳化劑，至少一種正鏈烷酸和/或其鹽，和至少一種緩沖劑。
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