[其他]用于氣體分析器的多層膜干涉濾光器無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85106181 | 申請(qǐng)日： | 1985-08-16 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN85106181B | 公開（公告）日： | 1988-06-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 石田正彥 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社堀場(chǎng)制作所 |
| 主分類號(hào)： | G01N21/35 | 分類號(hào)： | G01N21/35;G02B5/20 |
| 代理公司： | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人： | 李強(qiáng) |
| 地址： | 日本京都*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發(fā)明涉及用于氨氣、乙烯等氣體分析器的多層膜干涉濾光器，其目的是要在物理強(qiáng)度和耐久性上對(duì)之進(jìn)行改進(jìn)。在由紅外線可穿透材料制作的基片上，制作出了一種多層膜，在這種多層膜中鍺被用作高折射率材料，而硫化鋅被用作低折射率材料。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 氣體 分析器 多層 干涉 濾光 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
用于氣體分析器中的多層膜干涉濾光器，它具有8μm附近的起始透過波長(zhǎng)，其特征在于它包括疊置在Si基片的一個(gè)表面(切割面)上的兩組膜層和疊置在該基片的另一個(gè)表面(短切面)上的四組膜層，所述各組膜層由以Ge作高折射率材料并以ZnS作低折射率材料的交替多層膜構(gòu)成。
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- 專利分類
G01 測(cè)量；測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
