[其他]用于離子鍍膜的冷U陰極裝置無效
| 申請號： | 85103651 | 申請日： | 1985-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN85103651A | 公開（公告）日： | 1987-04-15 |
| 發明（設計）人： | 王殿儒;田大準 | 申請（專利權）人： | 中華鈦金研究所 |
| 主分類號： | C23C14/28 | 分類號： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 北京市專利事務所 | 代理人： | 王敬智 |
| 地址： | 北京市東皇*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一種用于離子鍍膜技術的冷U陰極裝置，屬于離子鍍膜技術領域。傳統的冷電弧陰極鍍膜裝置存在進氣方式欠佳，陰極內襯和自加熱襯套不好，電弧不能偏轉等缺點。本發明的冷U陰極鍍膜裝置進氣方式好，發射電流大，電弧可偏轉、陰極內襯和自加熱襯套性能好，可以鍍金屬件或塑料制品，鍍膜質量高、色澤鮮艷、價格便宜。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 用于 離子 鍍膜 陰極 裝置 | ||
【主權項】：
1、一種冷U陰極裝置，其特征在于，采用底部進氣，附有陰極內襯，裝有反射襯套的冷空腔陰極，并具有長壽命、低氣壓、大電流，可偏轉的電弧放電，致使坩堝陽極中的材料蒸發和離化，從而，可在負偏壓作用下，在被鍍工件表面上，形成多種具有優異特性的表面膜。
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