[其他]刻圖型工程圖曬印陽圖的工藝方法無效
| 申請號： | 85101941 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85101941A | 公開（公告）日： | 1987-06-10 |
| 發明（設計）人： | 王興惠;孫德雙;李江;曹廣玉;趙慧敏 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱飛機制造公司 |
| 主分類號： | G03C1/70 | 分類號： | G03C1/70;G03C1/74;G03F7/08 |
| 代理公司： | 航空工業部專利代理事務所 | 代理人： | 徐殿君 |
| 地址： | 黑龍江省哈*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | (技術領域G03)用于飛機、導彈、艦船、地圖測繪、汽車與機械制造等刻圖型工程圖的曬印。本發明的主要技術特征是經紫外線感光的、以高分子感光樹脂為光敏物質的、滌綸片基為載體的陰圖曬印陽圖的新型工藝方法。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 刻圖型 工程圖 曬印陽圖 工藝 方法 | ||
【主權項】：
1、用于刻圖型工程圖曬印陽圖的工藝方法，屬于非鹵化銀曬印的一種新方法，本發明的特征是預涂待用，感光液組份少，混合法制備感光液，顯影加工方便。①、其感光主劑的化學全稱是聚乙烯醇縮對疊氮苯甲醛和對羥基苯甲醛。②、其支持體為磨砂片滌綸片基。
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