[其他]專用于沉積大面積薄膜的平面磁控濺射源在審
| 申請號： | 101988000000832 | 申請日： | 1988-02-10 |
| 公開（公告）號： | CN1005733B | 公開（公告）日： | 1989-11-08 |
| 發明（設計）人： | 王德苗;任高潮 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 浙江大學專利代理事務所 | 代理人： | 連壽金 |
| 地址： | 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 一種專用于沉積大面積薄膜的平面磁控濺射源，其磷場由條狀靜止的外磁組件和能作往復運動的內磁組件產生，能對靜止的大面積工件表面均勻地鍍復陽光控制膜、低輻射膜、鏡面膜及導電膜。適用于鍍復大面積的工件，如大型建筑玻璃、汽車護柵、露天字牌、大型平面鏡等。是一種靶樹利用率高、耗能小、膜層均勻度高、投資少效益高的新型濺射源。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 專用 沉積 大面積 薄膜 平面 磁控濺射 | ||
【主權項】：
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