[其他]浸漬陰極在審
| 申請號： | 101986000001082 | 申請日： | 1986-02-06 |
| 公開（公告）號： | CN86101082B | 公開（公告）日： | 1988-12-28 |
| 發明（設計）人： | 山本惠彥;田口貞憲;會田敏之;度部勇人;川瀨進 | 申請（專利權）人： | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 徐汝巽;劉夢梅 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： |
本發明涉及一種浸漬陰極，其特點是在浸漬陰極圓片表面至少有兩層薄膜：下面是由如Ｏｓ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ等組成的高熔點金屬薄膜；上層是含Ｓｃ |
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| 搜索關鍵詞： | 浸漬 陰極 | ||
【主權項】：
暫無信息
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