[其他]用于氣體分析器的多層膜干涉濾光器在審
| 申請號： | 101985000006181 | 申請日： | 1985-08-16 |
| 公開（公告）號： | CN85106181B | 公開（公告）日： | 1988-06-22 |
| 發明（設計）人： | 石田正彥 | 申請（專利權）人： | 株式會社堀場制作所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 李強 |
| 地址： | 日本京都*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： |
本發明涉及用于氨氣、乙烯等氣體分析器的多層膜干涉濾光器，其目的是要在物理強度和耐久性上對之進行改進。在由紅外線可穿透材料制作的基片上，制作出了一種多層膜，在這種多層膜中鍺被用作高折射率材料，而硫化鋅被用作低折射率材料。 |
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| 搜索關鍵詞： | 用于 氣體 分析器 多層 干涉 濾光 | ||
【主權項】：
暫無信息
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