[其他]高壓鋁陽極箔兩步電化學蝕刻方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000001035 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN1005198B | 公開(公告)日: | 1989-09-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 阿羅拉 | 申請(專利權)人: | 菲利蒲(北美)有限公司 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 曹恒興 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 使用兩步方法蝕刻高立方結構的鋁電解電容器陽極箔,通過在一含有3(重量)%鹽酸和1(重量)%以氯化鋁形式的鋁的電解液中,在高電流密度的直流電作用下,于溫度75℃處理該箔,并在第二步中在一類似的電解液中,用低得多的電流密度和在溫度80°~82.5℃下處理所述蝕刻的箔。這樣蝕刻的箔具有由較高溝道密度產生的高得多的電容以及完全直線形的溝道結構。 | ||
| 搜索關鍵詞: | 高壓 陽極 箔兩步 電化學 蝕刻 方法 | ||
【主權項】:
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