[實用新型]一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202320628671.7
• 申請日: 2023-03-27
• 公開（公告）號: CN219326818U
• 公開（公告）日: 2023-07-11
• 發(fā)明（設計）人: 富之柢;盧怨誼
• 申請（專利權）人: 北京茂孚工業(yè)控制技術中心
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/56
• 代理公司: 成都頂峰專利事務所(普通合伙) 51224
• 代理人: 胡慶波

1.一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：包括底座、水冷陽極靶組件、水冷陰極靶組件和依次連通設置的真空室、左側(cè)波紋管、左側(cè)高壓防護管、中間高壓防護管、右側(cè)高壓防護管、右側(cè)波紋管和電弧沉積室，所述真空室和電弧沉積室分別與底座滑動連接；

所述水冷陽極靶組件的一端與真空室固定連接，所述水冷陽極靶組件的延長段依次穿過左側(cè)波紋管、左側(cè)高壓防護管后伸入位于中間高壓防護管內(nèi)的細長管件內(nèi)，所述水冷陰極靶組件的一端與電弧沉積室固定連接，所述水冷陰極靶組件的延長段依次穿過右側(cè)波紋管、右側(cè)高壓防護管后伸入位于中間高壓防護管內(nèi)的細長管件內(nèi)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述細長管件通過管件支撐件定位在中間高壓防護管內(nèi)。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述左側(cè)高壓防護管和中間高壓防護管之間設有第一連接管，所述右側(cè)高壓防護管和中間高壓防護管之間設有第二連接管；所述底座上分別設有第一對中裝置和第二對中裝置，所述第一對中裝置對第一連接管進行支撐，所述第二對中裝置對第二連接管進行支撐。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述管件支撐件設有兩個，分別為左側(cè)管件支撐件和右側(cè)管件支撐件，所述左側(cè)管件支撐件和右側(cè)管件支撐件分別位于第一連接管和第二連接管內(nèi)。

5.根據(jù)權利要求3所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述第一對中裝置和第二對中裝置均為可調(diào)升降結(jié)構。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述左側(cè)高壓防護管和右側(cè)高壓防護管分別通過左側(cè)支撐架和右側(cè)支撐架固定安裝在底座上。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述水冷陽極靶組件通過連接法蘭固定在真空室內(nèi)，所述水冷陰極靶組件通過連接法蘭固定在電弧沉積室內(nèi)。

8.根據(jù)權利要求1所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述真空室和電弧沉積室的下端分別設有滑塊，所述底座上對應的位置分別設有滑軌，所述滑塊與對應的滑軌滑動配合。

9.根據(jù)權利要求1所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述水冷陽極靶組件與弧源電源的正極連接，所述水冷陰極靶組件與弧源電源的負極連接。

10.根據(jù)權利要求1所述的一種帶有雙水內(nèi)冷小口徑管件電弧離子沉積設備，其特征在于：所述水冷陰極靶組件上靠近水冷陰極的位置設有引弧裝置，所述引弧裝置采用高功率脈沖方式，引弧脈沖峰值高達20Kv。