[發(fā)明專利]一種基于鍍鎳焊盤的鋁包銅線的鍵合方法及鍵合結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310825603.4 | 申請日: | 2023-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN116564837B | 公開(公告)日: | 2023-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周雨;梁杰 | 申請(專利權(quán))人: | 賽晶亞太半導(dǎo)體科技(北京)有限公司;賽晶亞太半導(dǎo)體科技(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;H01L23/49 |
| 代理公司: | 北京力量專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11504 | 代理人: | 李婷玉 |
| 地址: | 101318 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 鍍鎳焊盤 銅線 方法 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明提供一種基于鍍鎳焊盤的鋁包銅線的鍵合方法及鍵合結(jié)構(gòu),鍵合方法包括依次進行以下步驟:S1.采用鋁包銅線在第一焊盤的第一鍵合點完成第一鍵合,第一焊盤為鍍鎳焊盤;S2.焊頭向上垂直拉弧至第一高度;S3.焊頭斜向上拉弧,至達到第二高度,拉弧方向至豎直方向所呈的拉弧角度為?45°至0°,且不為0°;S4.焊頭斜向下拉弧至達到第二鍵合點垂直上方第三高度處;S5.焊頭向下拉弧至第二焊盤的第二鍵合點;S6.完成第二焊盤上第二鍵合點的第二鍵合;S7.扯斷引線,完成鍍鎳焊盤上鋁包銅線的鍵合。該鍵合方法,焊頭斜向上拉弧時,采用負的拉弧角度,可避免拉弧動作對鍵合點頸部的拉扯,可增加鋁包銅線鍵合點與鍍鎳焊盤的接觸面積,從而提高鍵合強度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件封裝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于鍍鎳焊盤的鋁包銅線的鍵合方法及鍵合結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體器件的封裝過程中,通常在芯片與引線框架之間通過焊線鍵合進行連接,鍵合點是實現(xiàn)芯片功能和外部電路連接的橋梁,其鍵合強度對半導(dǎo)體器件的功能和壽命起著決定性的作用。目前常用鋁線拉弧方法常采用超聲波冷壓焊(楔焊)方式,超聲波冷壓焊拉弧過程如下圖3所示:e→d→a→f→g。其中,e為第一/中間鍵合點位置,通常根據(jù)產(chǎn)品設(shè)計設(shè)定;d為第一/中間點鍵合后焊頭在拉弧前抬起的高度,一般為系統(tǒng)默認值,不同的線徑默認值不同;c為拉弧角度;a為設(shè)定的線弧高度,根據(jù)產(chǎn)品設(shè)計設(shè)定;f為搜索高度,焊頭開始以恒定速率下降到下一個鍵合點位置時的高度,是一個防止鍵合表面高度變化的安全距離,一般為系統(tǒng)默認值,不同的線徑默認值不同;g為中間/最后鍵合點位置,根據(jù)產(chǎn)品設(shè)計設(shè)定;e到g為鍵合點間的線弧長度。通常,鋁線拉弧方法使用正角度拉弧,正的拉弧角度能較好的控制焊線弧度,對鍵合點殘留和強度無影響。
鋁包銅線是一種由銅芯和鋁包覆層組成的復(fù)合鍵合線,具有優(yōu)異的電氣和機械性能。因鋁包銅線的特殊性(50%鋁包覆50%銅),鍵合時通過外層包覆的鋁與鍍鎳焊盤進行連接,銅不會與鍍鎳焊盤進行連接。在鍍鎳焊盤上,若鋁包銅線使用與鋁線相同的鍵合方法(正的拉弧角度)進行鍵合,由于鍵合后鍵合點底部的鋁層薄,鍵合點頸部(如圖4中A處)易被拉起,導(dǎo)致鍵合點殘留面積減小、鍵合強度低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是提供一種基于鍍鎳焊盤的鋁包銅線的鍵合方法及鍵合結(jié)構(gòu),焊頭斜向上拉弧時,采用負的拉弧角度,可避免拉弧動作對鍵合點頸部的拉扯,可增加鋁包銅線鍵合點與鍍鎳焊盤的接觸面積,從而提高鍵合強度。
為了解決上述問題,本發(fā)明提供一種基于鍍鎳焊盤的鋁包銅線的鍵合方法,包括依次進行以下步驟:
S1.采用鋁包銅線在第一焊盤的第一鍵合點完成第一鍵合,所述第一焊盤為鍍鎳焊盤;
S2.焊頭向上垂直拉弧至第一高度;
S3.焊頭斜向上拉弧,至達到第二高度,拉弧方向至豎直方向所呈的拉弧角度為-45°至0°,且不為0°;
S4.焊頭斜向下拉弧至達到第二鍵合點垂直上方第三高度處;
S5.焊頭向下拉弧至第二焊盤的所述第二鍵合點;
S6.完成第二焊盤上所述第二鍵合點的第二鍵合;
S7.扯斷引線,完成鍍鎳焊盤上鋁包銅線的鍵合。
優(yōu)選地,步驟S3中,拉弧方向至豎直方向所呈的拉弧角度為-45°至-30°。
優(yōu)選地,所述鋁包銅線的線徑為6-20mil。
優(yōu)選地,所述鋁包銅線的線徑為20mil。
優(yōu)選地,所述第一高度為100-700μm。
優(yōu)選地,所述第二高度為1000-1600μm。
優(yōu)選地,所述第三高度為700μm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





