[發明專利]偏振片透偏方向對準系統及方法有效
| 申請號: | 202310512310.0 | 申請日: | 2023-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN116224572B | 公開(公告)日: | 2023-08-22 |
| 發明(設計)人: | 張朋;李瓊;王妍潔;吳正容;劉建;陳宜穩;張銀輝;王洪剛;蔡文炳;徐小琴;趙學軍 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍63921部隊 |
| 主分類號: | G02B26/06 | 分類號: | G02B26/06;G02B27/09 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 姚大雷 |
| 地址: | 100094*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏振 偏方 對準 系統 方法 | ||
1.一種偏振片透偏方向對準系統,其特征在于,所述系統包括第一偏振片、錐光調節裝置、單軸晶體、第二偏振片、采集處理設備;
所述第一偏振片用于基于當前所述第一偏振片的旋轉角度對接收到的初始激光進行偏振調節,得到偏振光并將所述偏振光發射到所述錐光調節裝置;
所述錐光調節裝置用于將所述偏振光轉換為偏振錐光,并將所述偏振錐光發射到所述單軸晶體;所述單軸晶體基于雙折射特性和所述偏振錐光產生第一折射光和第二折射光,并將所述第一折射光和所述第二折射光發射到所述第二偏振片;
所述第二偏振片用于基于當前所述第二偏振片的旋轉角度對所述第一折射光和所述第二折射光進行偏振調節,并將調節后的第一折射光和調節后的第二折射光發射到所述采集處理設備;
所述采集處理設備用于將所述調節后的第一折射光和所述調節后的第二折射光轉換為目標電信號,并基于所述目標電信號得到錐光干涉圖樣;以及,提取所述錐光干涉圖樣中的特征信息,根據所述特征信息確定所述第一偏振片和所述第二偏振片是否對準,以記錄所述第一偏振片和所述第二偏振片對準時所述第一偏振片的第一旋轉角度和所述第二偏振片的第二旋轉角度;以及,控制所述第一偏振片保持在所述第一旋轉角度、所述第二偏振片保持在所述第二旋轉角度,以實現所述第一偏振片的透偏方向和所述第二偏振片的透偏方向對準。
2.如權利要求1所述的偏振片透偏方向對準系統,其特征在于,所述系統還包括:第一旋轉安裝座、第二旋轉安裝座以及驅動控制裝置;
所述第一旋轉安裝座用于安裝所述第一偏振片,并調整所述第一偏振片的旋轉角度;
所述第二旋轉安裝座用于安裝所述第二偏振片,并調整所述第二偏振片的旋轉角度;
所述第一旋轉安裝座和所述第二旋轉安裝座上分別設置有測量裝置,所述測量裝置用于測量所述第一偏振片和/或所述第二偏振片的旋轉角度;
所述驅動控制裝置用于在所述采集處理設備的控制下驅動所述第一旋轉安裝座和/或所述第二旋轉安裝座旋轉,以調節所述第一偏振片的透偏方向和/或所述第二偏振片的透偏方向。
3.如權利要求1所述的偏振片透偏方向對準系統,其特征在于,所述采集處理設備包括光學相機和處理裝置;
所述光學相機用于將所述調節后的第一折射光和所述調節后的第二折射光轉換為所述目標電信號、根據所述目標電信號生成所述錐光干涉圖樣并將所述錐光干涉圖樣發送給所述處理裝置;
所述處理裝置用于提取所述錐光干涉圖樣中的特征信息,根據所述特征信息確定所述第一偏振片和所述第二偏振片是否對準,以記錄所述第一偏振片和所述第二偏振片對準時所述第一偏振片的第一旋轉角度和所述第二偏振片的第二旋轉角度;以及,控制所述第一偏振片保持在所述第一旋轉角度、所述第二偏振片保持在所述第二旋轉角度。
4.如權利要求1所述的偏振片透偏方向對準系統,其特征在于,所述系統還包括光學整形模塊;
所述光學整形模塊設置在激光發射裝置和所述第一偏振片之間;
所述光學整形模塊用于對所述初始激光進行整形處理,得到整形后的初始激光并發射到所述第一偏振片,所述整形處理包括如下至少一項:濾光、擴束、準直和/或調整光斑大小;
所述第一偏振片具體用于對所述整形后的初始激光進行偏振調節以得到偏振光。
5.如權利要求4所述的偏振片透偏方向對準系統,其特征在于,所述光學整形模塊包括顯微物鏡、第一光闌、第一透鏡;
所述顯微物鏡用于對所述初始激光進行濾光處理,并將濾光處理后的初始激光發射到所述第一光闌;
所述第一光闌用于對濾光處理后的初始激光進行擴束處理,并將擴束處理后的初始激光發射到所述第一透鏡;
所述第一透鏡用于對擴束處理后的初始激光進行準直處理,得到準直處理后的初始激光并發射到所述第一偏振片;
其中,所述準直處理后的初始激光為所述整形后的初始激光,所述顯微物鏡和所述第一透鏡共焦,且所述第一光闌設置在所述顯微物鏡的焦點所在位置。
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