[發明專利]鉻催化劑的光處理以及相關的催化劑制備系統和聚合工藝在審
| 申請號: | 202310316016.2 | 申請日: | 2019-09-16 |
| 公開(公告)號: | CN116217760A | 公開(公告)日: | 2023-06-06 |
| 發明(設計)人: | K·S·克萊爾;M?P?麥克丹尼爾;W·C·埃利斯;E·D·施韋特費格爾;D?R?蓋根;C?A?克魯茲;M?M?蒙瓦爾 | 申請(專利權)人: | 切弗朗菲利浦化學公司 |
| 主分類號: | C08F10/00 | 分類號: | C08F10/00;C08F4/24;C08F110/02;C08F210/16;C08F210/14 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人: | 顏芳 |
| 地址: | 美國德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 催化劑 處理 以及 相關 制備 系統 聚合 工藝 | ||
1.一種用于還原用于烯烴聚合的鉻催化劑的方法,所述方法包含:
使用UV-可見光譜中的波長的具有至少5,000lux通量的光束照射包含C—H鍵的還原劑和包含處于六價氧化態的鉻的負載型鉻催化劑,以還原所述負載型鉻催化劑的至少一部分,進而形成還原的鉻催化劑。
2.根據權利要求1所述的方法,其中:
所述還原劑包含乙烯、1-丁烯、1-己烯、1-辛烯、甲烷、乙烷、丙烷、異丁烷、正戊烷、異戊烷、正己烷、四氟乙烷、環己烷、金剛烷、萘烷、苯、甲苯或其任何組合;并且
其中所述負載型鉻催化劑包含選自二氧化硅、氧化鋁、二氧化硅-氧化鋁、二氧化硅包覆的氧化鋁、正磷酸鋁(aluminum?phosphate)、磷酸鋁(aluminophosphate)、雜多鎢酸鹽、二氧化鈦、氧化鋯、氧化鎂、氧化硼、氧化鋅、二氧化硅-二氧化鈦、二氧化硅-氧化鋯、氧化鋁-二氧化鈦、氧化鋁-氧化鋯、鋁酸鋅、氧化鋁-氧化硼、二氧化硅-氧化硼、磷酸鋁-二氧化硅、二氧化鈦-氧化鋯,或其任何組合的固體氧化物。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述負載型鉻催化劑包含鉻/二氧化硅、鉻/二氧化硅-二氧化鈦、鉻/二氧化硅-二氧化鈦-氧化鎂、鉻/二氧化硅-氧化鋁、鉻/二氧化硅包覆的氧化鋁、鉻/磷酸鋁,或其任何組合。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述負載型鉻催化劑具有:
在約0.9至約3mL/g的范圍內的總孔體積;
在約200至約700m2/g的范圍內的BET表面積;以及
在約25至250μm的范圍內的平均粒度。
5.根據權利要求1所述的方法,其進一步包含煅燒步驟以形成包含處于所述六價氧化態的鉻的所述負載型鉻催化劑。
6.根據權利要求1所述的方法,其中:
所述還原劑包含具有上至36個碳原子的烷烴或芳香族化合物;并且
所述波長包含在約300nm至約500nm范圍內的單個波長或一系列波長。
7.根據權利要求1所述的方法,其中:
所述還原劑包含具有C—C鍵和C—H鍵的化合物;并且
所述波長包含約500nm以下的單個波長或一系列波長。
8.根據權利要求1所述的方法,其中:
所述光束包含350nm以上且500nm以下的波長。
9.根據權利要求1所述的方法,其中:
所述還原的鉻催化劑中小于或等于約50wt.%的所述鉻處于所述六價氧化態;以及
所述還原的鉻催化劑中的所述鉻具有小于或等于約5的平均化合價。
10.根據權利要求1所述的方法,其中:
在漿液聚合條件下,在105℃的溫度和550psig的壓力下,所述還原的鉻催化劑的催化劑活性比所述負載型鉻催化劑的催化劑活性高至少10%;和/或
在漿液聚合條件下,在105℃的溫度和550psig的壓力下,所述還原的鉻催化劑的催化劑活性比在400℃、沒有光照射的情況下使用所述還原劑制備的在其它方面相同的催化劑的催化劑活性高至少10%。
11.一種烯烴聚合工藝,其包含:
(I)使用具有至少5,000lux通量的在約300nm至約500nm的范圍內的單個波長或一系列波長下的光束照射包含C—H鍵的還原劑和包含處于六價氧化態的鉻的負載型鉻催化劑,以轉化所述負載型鉻催化劑的至少一部分,從而形成還原的鉻催化劑;以及
(II)使所述還原的鉻催化劑和任選的助催化劑與烯烴單體和任選的烯烴共聚單體在聚合反應器系統中在聚合反應條件下接觸以產生烯烴聚合物。
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