[發(fā)明專利]工程機械用三維模型降階方法、裝置及電子設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310271922.5
• 申請日: 2023-03-16
• 公開（公告）號: CN116361967A
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發(fā)明（設計）人: 郄永軍;孫帥;劉崢
• 申請（專利權）人: 三一重工股份有限公司
• 主分類號: G06F30/18
• 分類號: G06F30/18;G06F30/20;G06F17/16;G06F113/14
• 代理公司: 北京布瑞知識產(chǎn)權代理有限公司 11505
• 代理人: 張春輝

1.一種工程機械用三維模型降階方法，其特征在于，包括：

獲取用于描述目標設備原始三維模型的樣本數(shù)據(jù)集；所述樣本數(shù)據(jù)集包括輸入矩陣和輸出矩陣；

分別計算所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差；

將各子矩陣中誤差滿足預設條件且階數(shù)最小的子矩陣的階數(shù)作為目標階數(shù)，并確定所述目標階數(shù)對應的目標基函數(shù)矩陣；

其中，所述預設條件包括：數(shù)值大于第一閾值，并且，與各相鄰階數(shù)子矩陣的誤差的差值中，存在小于或等于第二閾值的差值；

根據(jù)所述目標基函數(shù)矩陣、所述輸出矩陣和所述輸入矩陣，生成所述目標設備降階后的目標三維模型。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，分別計算所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差，包括：

采用留一法，依次確定所述輸出矩陣的參考矩陣和與所述參考矩陣對應的對比矩陣；

基于奇異值分解，確定所述對比矩陣中各子矩陣對應的基函數(shù)矩陣，并確定所述基函數(shù)矩陣的投影矩陣；

利用所述參考矩陣和所述投影矩陣，分別確定所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，分別計算所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差，包括：

采用留一法，依次確定所述輸出矩陣的參考矩陣和與所述參考矩陣對應的對比矩陣；

基于奇異值分解，確定所述對比矩陣中各子矩陣對應的奇異值；

根據(jù)所述奇異值，分別確定所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，分別計算所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差，包括：

采用留一法，依次確定所述輸出矩陣的參考矩陣和與所述參考矩陣對應的對比矩陣；

基于奇異值分解，分別確定所述對比矩陣中各子矩陣對應的基函數(shù)矩陣以及奇異值，并確定所述基函數(shù)矩陣的投影矩陣；

利用所述參考矩陣和所述投影矩陣，分別確定所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的第一子誤差；

利用所述奇異值，分別確定所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的第二子誤差；

分別將各子矩陣對應的第一子誤差和第二子誤差相加，得到所述輸出矩陣中各子矩陣與所述輸出矩陣之間的誤差。

5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述目標基函數(shù)矩陣、所述輸出矩陣和所述輸入矩陣，生成所述目標設備降階后的目標三維模型，包括：

對所述目標基函數(shù)矩陣和所述輸出矩陣進行回歸擬合處理，得到所述目標基函數(shù)矩陣的系數(shù)；

根據(jù)所述系數(shù)和所述輸入矩陣，生成所述目標設備降階后的目標三維模型。

6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述系數(shù)和所述輸入矩陣，生成所述目標設備降階后的目標三維模型，包括：

基于克里金模型，將所述輸入矩陣與所述系數(shù)進行插值擬合，得到所述輸入矩陣與所述系數(shù)的響應關系；

將所述響應關系，更新到所述目標設備的原始三維模型中，得到降階后的所述目標三維模型。

7.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取用于描述目標設備原始三維模型的樣本數(shù)據(jù)集，包括：

獲取用于描述目標設備原始三維模型的多個樣本數(shù)據(jù)，構建樣本數(shù)據(jù)集；所述樣本數(shù)據(jù)包括輸入數(shù)據(jù)和對應的輸出數(shù)據(jù)。