[發明專利]特效處理方法、裝置、電子設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202310267600.3
• 申請日: 2023-03-14
• 公開（公告）號: CN116360661A
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: 周栩彬
• 申請（專利權）人: 北京字跳網絡技術有限公司
• 主分類號: G06F3/04845
• 分類號: G06F3/04845;G06T11/60
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 魯艷萍

1.一種特效處理方法，其特征在于，包括：

響應于特效觸發操作，獲取待處理的原始圖像；

在所述原始圖像中存在預設圖像主體的情況下，對所述預設圖像主體中的待處理區域進行特效處理，得到特效區域；

在存在兩個或兩個以上所述特效區域的情況下，基于預設的特效形態對至少一個所述特效區域的區域顯示位置進行調整，得到呈所述特效形態的特效主體；

確定與所述特效主體對應的背景圖像，將所述特效主體顯示于所述背景圖像中，得到特效圖像。

2.根據權利要求1所述的特效處理方法，其特征在于，所述待處理區域包括第一主體區域，所述對所述預設圖像主體中的待處理區域進行特效處理，得到特效區域，包括：

確定所述預設圖像主體中的第一主體區域，并確定所述第一主體區域對應的至少兩個區域關鍵點和第一區域掩膜；

基于至少兩個所述區域關鍵點和所述第一區域掩膜對所述第一主體區域進行特效處理，得到所述第一主體區域對應的特效區域。

3.根據權利要求2所述的特效處理方法，其特征在于，所述基于至少兩個所述區域關鍵點和所述第一區域掩膜對所述第一主體區域進行特效處理，得到所述第一主體區域對應的特效區域，包括：

針對所述第一區域掩膜中的每個待處理像素點，基于至少兩個所述區域關鍵點確定所述第一區域掩膜中與所述待處理像素點對應的目標采樣點；

基于所述待處理像素點、所述目標采樣點、所述第一區域掩膜和所述原始圖像，確定所述第一主體區域對應的特效區域。

4.根據權利要求3所述的特效處理方法，其特征在于，所述基于至少兩個所述區域關鍵點確定所述第一區域掩膜中與所述待處理像素點對應的目標采樣點，包括：

基于至少兩個所述區域關鍵點確定所述第一區域掩膜中與每個所述待處理像素點對應的采樣參考點；

基于所述待處理像素點與所述采樣參考點，確定所述第一區域掩膜中與所述待處理像素點對應的目標采樣點。

5.根據權利要求4所述的特效處理方法，其特征在于，所述基于至少兩個所述區域關鍵點確定所述第一區域掩膜中與每個所述待處理像素點對應的采樣參考點，包括：

基于至少兩個所述區域關鍵點確定與所述第一主體區域對應的區域參考線；

基于所述區域參考線確定與所述待處理像素點對應的采樣參考點。

6.根據權利要求5所述的特效處理方法，其特征在于，所述基于所述區域參考線分別確定與所述待處理像素點對應的采樣參考點，包括：

將所述區域參考線上與所述待處理像素點距離最近的點，作為與所述待處理像素點對應的采樣參考點。

7.根據權利要求4所述的特效處理方法，其特征在于，所述基于所述待處理像素點與所述采樣參考點，確定所述第一區域掩膜中與所述待處理像素點對應的目標采樣點，包括：

構建從所述待處理像素點指向所述采樣參考點之間的向量，作為參考向量；

基于所述參考向量確定所述第一區域掩膜中與所述待處理像素點對應的目標采樣點。

8.根據權利要求3所述的特效處理方法，其特征在于，所述基于所述待處理像素點、所述目標采樣點、所述第一區域掩膜和所述原始圖像，確定所述第一主體區域對應的特效區域，包括：

將與所述待處理像素點對應的所述目標采樣點在所述第一區域掩膜中的像素值，更新為所述待處理像素點的采樣像素值；

基于至少兩個所述區域關鍵點，確定所述第一區域掩膜中與所述第一主體區域對應的特效掩膜區域；

基于所述特效掩膜區域中每個所述待處理像素點的采樣像素值和所述原始圖像，確定所述第一主體區域對應的特效區域。