[發明專利]一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法

在審

• 申請號: 202310246961.X
• 申請日: 2023-03-15
• 公開（公告）號: CN116220829A
• 公開（公告）日: 2023-06-06
• 發明（設計）人: 李廣超;何海超;孫誠;劉松;郭文;趙長宇;何洪斌;趙志奇;張魏
• 申請（專利權）人: 沈陽航空航天大學
• 主分類號: F01D5/18
• 分類號: F01D5/18;F01D5/14
• 代理公司: 沈陽東大知識產權代理有限公司 21109
• 代理人: 梁焱

1.一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法，其特征在于具體為：在葉根后半段劃分出因通道渦對氣膜的卷吸作用而產生的氣膜失效三角區，在氣膜失效三角區內增設非均勻陣列布置氣膜孔。

2.根據權利要求1所述的一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法，其特征在于：氣膜失效三角區的長度為距葉片尾緣點80％軸向弦長，氣膜失效三角區的高度為距葉根35％葉高。

3.根據權利要求1所述的一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法，其特征在于：非均勻陣列布置氣膜孔的橫向間距根據葉片內部縱向氣腔位置進行設定。

4.根據權利要求1所述的一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法，其特征在于：非均勻陣列布置氣膜孔采用漏斗型漸縮孔結構，分為漸縮段和平直段，漸縮段起始于1/3氣膜孔長度處，將非均勻陣列布置氣膜孔的進氣口與出氣口的直徑比值定義為漸縮比，且漸縮比范圍為1.2～1.8。

5.根據權利要求1所述的一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法，其特征在于：將非均勻陣列布置氣膜孔的軸向與流線方向形成的夾角定義為方位角α，且方位角α的范圍為30°～60°。

6.根據權利要求1所述的一種抑制渦輪葉片尾緣氣膜局部失效的方法，其特征在于：將前排非均勻陣列布置氣膜孔和后排非均勻陣列布置氣膜孔的出氣口中心連線與流線方向形成的夾角定義為偏角β，后排非均勻陣列布置氣膜孔按照避開前排非均勻陣列布置氣膜孔偏角β在-10°～-15°方向范圍進行布置，其中以指向葉根方向的角度為正。