[發(fā)明專利]下位機(jī)、半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其工藝控制方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310174323.1 | 申請日: | 2023-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN116313907A | 公開(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 肖托;張立超;楊晴 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;G05B19/418 |
| 代理公司: | 北京薈英捷創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11726 | 代理人: | 左文 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 下位 半導(dǎo)體 工藝設(shè)備 及其 工藝 控制 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種下位機(jī)、半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其工藝控制方法,涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,該下位機(jī)包括:工藝控制模塊;工藝控制模塊,用于在接收到上位機(jī)發(fā)送的工藝開始指令時,獲取存儲的工藝配方數(shù)據(jù),執(zhí)行工藝開始指令對應(yīng)的工藝配方;在執(zhí)行工藝配方的每個工藝步驟的過程中,監(jiān)測是否產(chǎn)生工藝異常告警;在工藝異常告警產(chǎn)生時,基于預(yù)設(shè)告警處理策略自動消除工藝異常告警對應(yīng)的報警源。本發(fā)明能夠使工藝控制模塊完全在下位機(jī)中運(yùn)行,避免工藝控制過程受到控制軟件或操作系統(tǒng)故障影響,且可以自動進(jìn)行告警處理,提升了半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝控制可靠性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種下位機(jī)、半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其工藝控制方法。
背景技術(shù)
工藝控制模塊是半導(dǎo)體工藝設(shè)備的控制軟件所在的上位機(jī)(即控制軟件所在的PC端)中必不可少的一個模塊,目前,上位機(jī)中的工藝控制模塊通常作為半導(dǎo)體工藝設(shè)備控制軟件的子模塊或者作為半導(dǎo)體工藝設(shè)備控制軟件之外的獨(dú)立模塊運(yùn)行。但是,當(dāng)工藝控制模塊作為子模塊運(yùn)行時,若控制軟件出現(xiàn)故障,工藝控制模塊也會出現(xiàn)故障,導(dǎo)致半導(dǎo)體工藝無法繼續(xù),進(jìn)而導(dǎo)致工藝失敗出現(xiàn)壞片;而當(dāng)工藝控制模塊作為獨(dú)立模塊運(yùn)行時,雖然不會受到其他故障模塊的影響,但是受上位機(jī)操作系統(tǒng)的影響較大,若長時間未對操作系統(tǒng)進(jìn)行重啟維護(hù),工藝控制模塊出現(xiàn)故障的概率會隨著時間不斷提升,降低了工藝控制模塊的工藝控制可靠性。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種下位機(jī)、半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其工藝控制方法,能夠使工藝控制模塊完全在下位機(jī)中運(yùn)行,即使工藝過程中上位機(jī)的控制軟件或操作系統(tǒng)出現(xiàn)故障也不會影響工藝運(yùn)行結(jié)果,并且,在工藝過程中產(chǎn)生工藝異常告警時可以自動進(jìn)行告警處理,避免影響產(chǎn)品安全,提升了半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝控制可靠性。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實施例采用的技術(shù)方案如下:
第一方面,本發(fā)明實施例提供了一種下位機(jī),應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝設(shè)備,所述下位機(jī)包括:工藝控制模塊;所述工藝控制模塊,用于在接收到上位機(jī)發(fā)送的工藝開始指令時,獲取存儲的工藝配方數(shù)據(jù),執(zhí)行所述工藝開始指令對應(yīng)的工藝配方;在執(zhí)行所述工藝配方的每個工藝步驟的過程中,監(jiān)測是否產(chǎn)生工藝異常告警;在所述工藝異常告警產(chǎn)生時,基于預(yù)設(shè)告警處理策略自動消除所述工藝異常告警對應(yīng)的報警源。
進(jìn)一步,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第一種可能的實施方式,其中,所述下位機(jī),還用于在所述工藝異常告警產(chǎn)生時,將所述工藝異常告警同步至上位機(jī)。
進(jìn)一步,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第二種可能的實施方式,其中,所述工藝控制模塊中設(shè)置有配方執(zhí)行區(qū)域;所述工藝控制模塊,還用于:將所述工藝配方的目標(biāo)工藝步驟的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)存至所述配方執(zhí)行區(qū)域,當(dāng)開始執(zhí)行所述目標(biāo)工藝步驟時,基于計時器對所述目標(biāo)工藝步驟的運(yùn)行時長進(jìn)行計時;其中,所述工藝配方包括多個工藝步驟,所述目標(biāo)工藝步驟為所述工藝配方中當(dāng)前待執(zhí)行的工藝步驟;在所述目標(biāo)工藝步驟的執(zhí)行過程中未產(chǎn)生所述工藝異常告警時,將執(zhí)行所述目標(biāo)工藝步驟產(chǎn)生的執(zhí)行結(jié)果作為輸出信號傳輸至所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備的執(zhí)行件;在所述運(yùn)行時長大于等于預(yù)設(shè)工序時長時,確定所述目標(biāo)工藝步驟運(yùn)行完畢,判斷所述工藝配方是否執(zhí)行完畢,如果否,將所述工藝配方中所述目標(biāo)工藝步驟的下一個工藝步驟作為新的目標(biāo)工藝步驟,以依次執(zhí)行所述工藝配方中的各工藝步驟,直至所述工藝配方執(zhí)行完畢。
進(jìn)一步,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第三種可能的實施方式,其中,所述工藝控制模塊中還存儲有所述工藝配方對應(yīng)的配置參數(shù);所述工藝控制模塊,還用于在所述運(yùn)行時長小于預(yù)設(shè)工序時長時,獲取所述配置參數(shù)及所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備的運(yùn)行數(shù)據(jù)檢測值,基于所述配置參數(shù)及所述運(yùn)行數(shù)據(jù)檢測值監(jiān)測是否產(chǎn)生工藝異常告警。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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