[發(fā)明專利]一種掃描型哈特曼波前檢測法

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• 申請日: 2023-02-24
• 公開（公告）號: CN116067510A
• 公開（公告）日: 2023-05-05
• 發(fā)明（設計）人: 彭隆祥;周敢
• 申請（專利權(quán)）人: 騰景科技股份有限公司
• 主分類號: G01J9/00
• 分類號: G01J9/00
• 代理公司: 北京東方盛凡知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11562
• 代理人: 沈曉彥

1.一種掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，包括：

將待測光通過微透鏡陣列聚焦在陣列探測裝置的端面上，通過二維電動平移臺將所述陣列探測裝置的端面在微透鏡陣列的聚焦面上進行掃描；

所述陣列探測裝置通過光電轉(zhuǎn)化記錄每個探測點的光強值，掃描整個探測面后記錄每個探測點光斑的質(zhì)心位置坐標；

根據(jù)所述位置坐標，利用波前復原算法計算獲得波前相位。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，通過二維電動平移臺將所述陣列探測裝置的端面在微透鏡陣列的聚焦面上進行掃描之前還包括，

所述微透鏡陣列保持不動，將所述陣列探測裝置固定在所述二維電動平移臺上；

預設透鏡參數(shù)，確保經(jīng)過透鏡聚焦在陣列探測裝置端面上的探測點都相互獨立并且都在各自的網(wǎng)格內(nèi)之后，隨著二維電動平移臺進行掃描。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，通過二維電動平移臺將所述陣列探測裝置的端面在微透鏡陣列的聚焦面上進行掃描的過程包括，

對所述陣列探測裝置的每個探測點在各自網(wǎng)格內(nèi)進行掃描，獲得陣列探測裝置每個探測點的光強并記錄。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，

所述陣列探測裝置包括兩種陣列探測裝置：第一種陣列探測裝置、第二種陣列探測裝置；

所述第一種陣列探測裝置包括光波導陣列和CCD陣列；

所述第二種陣列探測裝置包括微孔陣列和CCD陣列。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，對所述第一種陣列探測裝置的每個探測點在各自網(wǎng)格內(nèi)進行掃描，獲得所述第一種陣列探測裝置每個探測點的光強并記錄的過程包括，

將所述待測光通過微透鏡陣列聚焦在光波導陣列的端面上，所述光波導陣列接收到光后傳輸至CCD陣列上，所述CCD陣列上的每個CCD單元分別讀取光強數(shù)值并記錄保存。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，對所述第二種陣列探測裝置的每個探測點在各自網(wǎng)格內(nèi)進行掃描，獲得所述第二種陣列探測裝置每個探測點的光強并記錄的過程包括，

將所述待測光通過微透鏡陣列聚焦在CCD微元探測面上，所述微孔陣列與CCD陣列緊挨，通過薄微孔陣列的待測光到達CCD陣列；

所述待測光到達CCD陣列后，二維電動平移臺將CCD陣列和微孔陣列在CCD微元探測面所在平面內(nèi)進行掃描，每個CCD微元分別讀取光強數(shù)值并記錄保存。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，所述二維電動平移臺包括伺服滑臺、直線電機、壓電陶瓷位移臺。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描型哈特曼波前檢測方法，其特征在于，根據(jù)所述位置坐標，利用波前復原算法計算獲得波前相位的過程包括，

利用哈特曼波前相位計算公式計算獲得A矩陣，基于所述A矩陣帶入澤尼克正交多項式構(gòu)建的波前相位表達式進行重構(gòu)獲得波前相位；其中，為波前相位表達式，D為澤尼克正交多項式矩陣，A為系數(shù)矩陣。