[發(fā)明專利]一種聚二甲基硅氧烷柱陣列的恢復(fù)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310034410.7
• 申請(qǐng)日: 2023-01-10
• 公開（公告）號(hào): CN115926226A
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田新春;馬壯;高麗紅;柳彥博;劉玲;王東
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京理工大學(xué)
• 主分類號(hào): C08J7/02
• 分類號(hào): C08J7/02;C08L83/04
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 王立普

1.一種聚二甲基硅氧烷柱陣列的恢復(fù)方法，其特征在于，包括以下步驟：

將倒塌的聚二甲基硅氧烷柱陣列浸沒于有機(jī)溶劑中進(jìn)行溶脹處理，得到溶脹聚二甲基硅氧烷柱陣列；所述有機(jī)溶劑對(duì)聚二甲基硅氧烷的溶脹率≥1.20，所述溶脹率為線溶脹率、面積溶脹率或體積溶脹率；

將所述溶脹聚二甲基硅氧烷柱陣列從所述有機(jī)溶劑中取出后進(jìn)行干燥，得到恢復(fù)的聚二甲基硅氧烷柱陣列。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷柱陣列中聚二甲基硅氧烷柱的直徑為10nm～1mm，長(zhǎng)徑比為1～30，柱間距為1nm～1mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述溶脹率為1.20～2.50。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述有機(jī)溶劑包括苯、甲苯、二甲苯、氯苯、庚烷、己烷、戊烷、環(huán)己烷、二氯甲烷、二甲氧基乙烷、三氯甲烷、2-庚酮、2-丁酮、叔丁醇、乙酸丁酯、乙二醇二甲醚、乙醚、三氯乙烯、四氫呋喃、三乙胺和二異丙胺中的一種或幾種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述溶脹處理在室溫下進(jìn)行。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述溶脹處理的時(shí)間為5min以上。

7.根據(jù)權(quán)利要求1、5或6所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述溶脹處理在密閉容器內(nèi)進(jìn)行。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恢復(fù)方法，其特征在于，所述干燥的溫度為室溫～200℃，時(shí)間≥5min。