[發(fā)明專利]一種降低輻射源功耗的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310010422.6 | 申請日: | 2023-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN115942518A | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 馬銘翊;鄭崇;范小禮 | 申請(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號: | H05B1/02 | 分類號: | H05B1/02;H05B3/00 |
| 代理公司: | 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 王文雅 |
| 地址: | 100854*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 降低 輻射源 功耗 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種降低輻射源功耗的方法,該方法包括:(1)將相變材料放置于保溫腔體內(nèi),并在相變材料的四周設置電阻絲,在相變材料的上下表面設置第一溫度傳感器,得到相變材料層;(2)將輻射源材料放置在相變材料層之上,并在輻射源材料的上表面放置第二溫度傳感器,得到輻射源材料層;(3)利用電阻絲對所述相變材料層進行加熱,待第一溫度傳感器達到第一預設溫度后,停止加熱,得到具有潛熱儲能功能的相變材料層;(4)利用具有潛熱儲能功能的相變材料層對輻射源材料層進行加熱,直至所述第二溫度傳感器的溫度到達所需溫度。本發(fā)明中該方法與現(xiàn)有的輻射源供能方式相比,該方法的功率耗能較小。
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及輻射源技術(shù)領域,特別涉及一種降低輻射源功耗的方法。
背景技術(shù)
輻射源是指能夠發(fā)射紅外輻射的物質(zhì)或裝置,通常用于加熱、制冷及標定儀器設備等。
現(xiàn)有技術(shù)中,為使輻射源達到工程應用所需工況,常利用電能對輻射源進行直接或間接的加熱以使其達到所需溫度。然而,在某些特殊環(huán)境中(如野外、戈壁或海面等),電能獲取極為不便,無法對輻射源進行供能,并且需要持續(xù)加熱輻射源,其功率耗能較大,無法達到節(jié)能要求。因此,需要提供一種能夠降低輻射源功耗的方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供了一種降低輻射源功耗的方法,該方法能夠在電能獲取不便的情況下仍然能夠?qū)崿F(xiàn)輻射源的正常應用,并且與現(xiàn)有的輻射源供能方式相比,該方法所需的功率耗能較小。
第一方面,本發(fā)明提供了一種降低輻射源功耗的方法,該方法包括:
(1)將相變材料放置于保溫腔體內(nèi),并在所述相變材料的四周設置電阻絲,在所述相變材料的上下表面設置第一溫度傳感器,得到相變材料層;
(2)將輻射源材料放置在所述相變材料層之上,并在所述輻射源材料的上表面放置第二溫度傳感器,得到輻射源材料層;
(3)利用所述電阻絲對所述相變材料層進行加熱,待所述第一溫度傳感器達到第一預設溫度后,停止加熱,得到具有潛熱儲能功能的相變材料層;
(4)利用所述具有潛熱儲能功能的相變材料層對所述輻射源材料層進行加熱,直至所述第二溫度傳感器的溫度到達所需溫度。
優(yōu)選地,所述電阻絲纏繞在所述相變材料層的四周,且所述電阻絲與所述輻射源材料層存在間隔。
優(yōu)選地,所述輻射源材料層的厚度為1~2mm。
優(yōu)選地,所述保溫腔體為玻璃纖維、石棉、巖棉、硅酸鹽或氣凝膠氈中的至少一種。
優(yōu)選地,所述第一溫度傳感器的數(shù)量為2~4個,所述第二溫度傳感器的數(shù)量為1~2個。
優(yōu)選地,所述相變材料為固-固相變、固-液相變、固-氣相變或液-氣相變材料中的一種。
優(yōu)選地,所述第一預設溫度為所述相變材料發(fā)生相變的溫度。
優(yōu)選地,所述輻射源材料層的上表面設有可移動的保溫蓋。
第二方面,本發(fā)明還提供了一種上述第一方面任一項所述的方法得到的輻射源在加熱、制冷和標定儀器中的應用。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比至少具有如下有益效果:
在本發(fā)明中,利用相變材料的潛熱儲能性能進行熱能的存儲,使得相變材料在特定的場合及時間釋放熱能,從而加熱輻射源材料并使其達到實際需求的溫度,本發(fā)明中的該方法能夠解決了現(xiàn)有技術(shù)中的輻射源耗電功率較大且在極端環(huán)境中因用電受限無法保證輻射源的正常應用的問題。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京環(huán)境特性研究所,未經(jīng)北京環(huán)境特性研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202310010422.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





