[實(shí)用新型]降氧裝置和具有其的單晶爐熱場(chǎng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202223449224.X | 申請(qǐng)日: | 2022-12-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN218989462U | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉磊;張華利;汪晨;武鵬;樓杭炯;周潔 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 江蘇協(xié)鑫硅材料科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C30B15/00 | 分類(lèi)號(hào): | C30B15/00;C30B29/06;C30B15/16 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黃德海 |
| 地址: | 221000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 具有 單晶爐熱場(chǎng) | ||
1.一種降氧裝置,用于單晶爐熱場(chǎng),其特征在于,所述單晶爐熱場(chǎng)包括:爐體、設(shè)置在所述爐體內(nèi)的保溫筒和設(shè)置于所述保溫筒內(nèi)的坩堝、側(cè)加熱器、底加熱器和所述降氧裝置,所述側(cè)加熱器設(shè)置在所述坩堝的外圍,所述降氧裝置位于所述側(cè)加熱器的下端,所述底加熱器設(shè)置在所述坩堝的底部,其中,所述保溫筒自上而下依次包括上保溫筒、中保溫筒和下保溫筒,所述降氧裝置包括:
支撐環(huán)(10),所述支撐環(huán)(10)包括上支撐環(huán)(1)、下支撐環(huán)(2)和環(huán)面支撐環(huán)(3),所述環(huán)面支撐環(huán)(3)位于所述上支撐環(huán)(1)和所述下支撐環(huán)(2)之間,以構(gòu)造出開(kāi)口朝向所述保溫筒的隔熱腔,其中,所述下支撐環(huán)(2)的外徑大于所述上支撐環(huán)(1)的外徑,以使部分的所述下支撐環(huán)(2)安裝在所述中保溫筒和所述下保溫筒之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的降氧裝置,其特征在于,所述上支撐環(huán)(1)的厚度小于所述下支撐環(huán)(2)的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的降氧裝置,其特征在于,
所述下支撐環(huán)(2)的上側(cè)面設(shè)置有第一臺(tái)階面(4),所述中保溫筒的下側(cè)面設(shè)置有與所述第一臺(tái)階面(4)配合的第二臺(tái)階面,和/或,
所述下支撐環(huán)(2)的下側(cè)面設(shè)置有第三臺(tái)階面(5),所述下保溫筒的上側(cè)面設(shè)置有與所述第三臺(tái)階面(5)配合的第四臺(tái)階面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的降氧裝置,其特征在于,所述支撐環(huán)(10)由碳碳材料或者石墨材料構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的降氧裝置,其特征在于,所述降氧裝置還包括保溫環(huán)(7),所述保溫環(huán)(7)設(shè)置于所述隔熱腔內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的降氧裝置,其特征在于,所述保溫環(huán)(7)的外徑小于所述中保溫筒的內(nèi)徑,以使所述保溫環(huán)(7)與所述中保溫筒間隔開(kāi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的降氧裝置,其特征在于,所述保溫環(huán)(7)設(shè)置有多個(gè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的降氧裝置,其特征在于,所述保溫環(huán)(7)由固化氈構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的降氧裝置,其特征在于,所述降氧裝置還包括緊固件,所述緊固件用于將所述保溫環(huán)(7)固定在所述支撐環(huán)(10)內(nèi)。
10.一種單晶爐熱場(chǎng),其特征在于,包括權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的降氧裝置。
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