[實用新型]一種沉積鍍膜裝置

有效

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• 申請日: 2022-12-05
• 公開（公告）號: CN218756031U
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發(fā)明（設計）人: 朱家暢;王森;郭永強
• 申請（專利權）人: 嘉興阿特斯技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/46
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 楊杰

本實用新型屬于氣相沉積鍍膜技術領域，公開了一種沉積鍍膜裝置，該沉積鍍膜裝置包括反應艙、陽極熱板、陰極熱板及輸送機構，反應艙內(nèi)部設置有鍍膜腔，陽極熱板和陰極熱板相對設置于鍍膜腔內(nèi)，輸送機構在鍍膜腔內(nèi)沿第一方向輸送用于承載基板的載板，第一方向與陽極熱板和陰極熱板的排列方向垂直，載板背離其承載面的一面與陽極熱板朝向陰極熱板的一側接觸，陽極熱板產(chǎn)生的熱量能夠直接傳遞給載板，載板將熱量傳遞給基板，以對基板進行加熱，從而縮短基板加熱至適宜溫度的時間，進而提高鍍膜效率，而且陽極熱板能夠將熱量均勻地傳遞至載板，且載板能夠將熱量均勻地傳遞至基板，從而實現(xiàn)對基板的均勻加熱，進而保證基團能夠均勻地沉積在基板上。

技術領域

本實用新型涉及氣相沉積鍍膜技術領域，尤其涉及一種沉積鍍膜裝置。

背景技術

在硅薄膜制備工藝中，通常要通過等離子體增強化學氣相沉積的方式進行制備。在等離子體增強化學氣相沉積工藝中，向反應艙內(nèi)通入的反應氣體在電場的作用下被分解產(chǎn)生等離子體，等離子體中含大量活性基團，這些基團會經(jīng)過一系列化學和等離子體反應，并沉積在具有適宜溫度的基板上，從而在基板表面形成固態(tài)薄膜。

為保證基板的溫度適宜，現(xiàn)有技術中通常會在反應艙內(nèi)布置陽極熱板和陰極熱板，陽極熱板和陰極熱板相對設置，載板能夠位于陽極熱板和陰極熱板之間，且載板和陽極熱板之間及載板和陰極熱板之間均呈間隔設置，陽極熱板和陰極熱板除能夠產(chǎn)生強電場外，還能夠對反應艙的內(nèi)部進行加熱，從而對承載于載板上的基板進行加熱，即，現(xiàn)有技術中通常采取隔空加熱的方式加熱基板，但采取隔空加熱的加熱效率低，基板加熱至適宜溫度需要經(jīng)過較長時間，從而影響鍍膜效率，而且采取隔空加熱不易保證基板能夠均勻受熱，從而導致基團無法均勻地沉積在基板上。

因此，上述問題亟待解決。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種沉積鍍膜裝置，以解決采取隔空加熱的加熱效率低，基板加熱至適宜溫度需要經(jīng)過較長時間，從而影響鍍膜效率，而且采取隔空加熱不易保證基板能夠均勻受熱，從而導致基團無法均勻地沉積在基板上的問題。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種沉積鍍膜裝置，包括：

反應艙，內(nèi)部設置有鍍膜腔；

陽極熱板和陰極熱板，相對設置于所述鍍膜腔內(nèi)；及

輸送機構，被配置為在所述鍍膜腔內(nèi)沿第一方向輸送用于承載待鍍膜基板的載板，所述第一方向與所述陽極熱板和所述陰極熱板的排列方向垂直，所述載板背離其承載面的一面與所述陽極熱板朝向所述陰極熱板的一側接觸。

作為優(yōu)選，所述沉積鍍膜裝置還包括移動機構，所述移動機構被配置為驅動所述陽極熱板朝向所述陰極熱板移動。

作為優(yōu)選，所述移動機構包括：

移動架，設置于所述反應艙的外部；

推桿，所述推桿的一端固定連接于所述移動架，所述推桿的另一端穿過所述反應艙伸入所述鍍膜腔內(nèi)，并與所述陽極熱板固定連接；及

第一驅動件，被配置為驅動所述移動架沿所述陽極熱板和所述陰極熱板的排列方向移動。

作為優(yōu)選，所述推桿的外周套設有波紋管，所述波紋管被抵壓于所述反應艙和所述推桿之間。

作為優(yōu)選，所述輸送機構包括一對傳動輥軸組，一對所述傳動輥軸組沿第二方向間隔設置，所述第二方向垂直于所述陽極熱板和所述陰極熱板的排列方向及所述第一方向，所述傳動輥軸組包括沿所述第一方向間隔設置的多個傳動輥軸，所述傳動輥軸的一端伸出所述反應艙并與第二驅動件傳動連接，所述載板能夠承載于一對所述傳動輥軸組上。

作為優(yōu)選，所述沉積鍍膜裝置還包括磁流體密封件，所述磁流體密封件套設于所述傳動輥軸的外周并被抵壓于所述反應艙和所述傳動輥軸之間。