[實(shí)用新型]一種沉積鍍膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202223248571.6 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN218756031U | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱家暢;王森;郭永強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 嘉興阿特斯技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/50 | 分類號(hào): | C23C16/50;C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 楊杰 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉興市秀*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 沉積 鍍膜 裝置 | ||
1.一種沉積鍍膜裝置,其特征在于,包括:
反應(yīng)艙(210),內(nèi)部設(shè)置有鍍膜腔(211);
陽極熱板(230)和陰極熱板(220),相對(duì)設(shè)置于所述鍍膜腔(211)內(nèi);及
輸送機(jī)構(gòu)(240),被配置為在所述鍍膜腔(211)內(nèi)沿第一方向輸送用于承載待鍍膜基板的載板(100),所述第一方向與所述陽極熱板(230)和所述陰極熱板(220)的排列方向垂直,所述載板(100)背離其承載面的一面與所述陽極熱板(230)朝向所述陰極熱板(220)的一側(cè)接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述沉積鍍膜裝置還包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)(250),所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)(250)被配置為驅(qū)動(dòng)所述陽極熱板(230)朝向所述陰極熱板(220)移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)(250)包括:
移動(dòng)架(251),設(shè)置于所述反應(yīng)艙(210)的外部;
推桿(252),所述推桿(252)的一端固定連接于所述移動(dòng)架(251),所述推桿(252)的另一端穿過所述反應(yīng)艙(210)伸入所述鍍膜腔(211)內(nèi),并與所述陽極熱板(230)固定連接;及
第一驅(qū)動(dòng)件(253),被配置為驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)架(251)沿所述陽極熱板(230)和所述陰極熱板(220)的排列方向移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述推桿(252)的外周套設(shè)有波紋管,所述波紋管被抵壓于所述反應(yīng)艙(210)和所述推桿(252)之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述輸送機(jī)構(gòu)(240)包括一對(duì)傳動(dòng)輥軸組,一對(duì)所述傳動(dòng)輥軸組沿第二方向間隔設(shè)置,所述第二方向垂直于所述陽極熱板(230)和所述陰極熱板(220)的排列方向及所述第一方向,所述傳動(dòng)輥軸組包括沿所述第一方向間隔設(shè)置的多個(gè)傳動(dòng)輥軸(2411),所述傳動(dòng)輥軸(2411)的一端伸出所述反應(yīng)艙(210)并與第二驅(qū)動(dòng)件傳動(dòng)連接,所述載板(100)能夠承載于一對(duì)所述傳動(dòng)輥軸組上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述沉積鍍膜裝置還包括磁流體密封件,所述磁流體密封件套設(shè)于所述傳動(dòng)輥軸(2411)的外周并被抵壓于所述反應(yīng)艙(210)和所述傳動(dòng)輥軸(2411)之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述沉積鍍膜裝置還包括真空發(fā)生器及抽真空管道(260),所述抽真空管道(260)的兩端分別與所述真空發(fā)生器和所述鍍膜腔(211)連通。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述沉積鍍膜裝置還包括布?xì)夂?270),所述布?xì)夂?270)安裝于所述反應(yīng)艙(210)的外部,并被配置為向所述鍍膜腔(211)內(nèi)通入反應(yīng)氣體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述陰極熱板(220)通過第一加熱端子(221)與安裝于所述反應(yīng)艙(210)外部的第一加熱源連通,所述第一加熱端子(221)與所述反應(yīng)艙(210)之間呈密封設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積鍍膜裝置,其特征在于,所述陽極熱板(230)通過第二加熱端子(231)與安裝于所述反應(yīng)艙(210)外部的第二加熱源連通,所述第二加熱端子(231)與所述反應(yīng)艙(210)之間呈密封設(shè)置。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





