[實用新型]一種真空控制裝置及系統

有效

• 申請號: 202223228044.9
• 申請日: 2022-12-02
• 公開（公告）號: CN218728698U
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發明（設計）人: 邱春玲;汪正昊;龍濤;齊超;童宇航;李文燕;王冰怡
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: G05B19/042
• 分類號: G05B19/042
• 代理公司: 北京市盛峰律師事務所 11337
• 代理人: 洪麗

本實用新型提供了一種真空控制裝置及系統，該裝置采用MCU和CPLD架構，一方面，可以減輕MCU負荷，不影響其它對實時性要求較高的任務的正常執行；另一方面，CPLD編程靈活，利用CPLD的可重構特性可以編寫所需的功能模塊實現外部模塊電路和MCU處理器之間的信號互聯，靈活擴展所需要的功能，簡化復雜度，降低開發難度，提高穩定性且易于維護。該系統硬件集成，配合配套上位機軟件，實現真空控制系統小型化、集成化、智能化。

技術領域

本實用新型涉及真空設備技術領域，尤其涉及一種真空控制裝置及系統。

背景技術

現階段，國內的質譜儀現場監測系統的真空系統較為分散，且多采用手動、氣動控制或采用工業控制計算機實現，占地面積大，集成度不高。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種真空控制裝置及系統，從而解決現有技術中存在的前述問題。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：

一種真空控制裝置，包括殼體以及設置在殼體內的電路板，所述電路板包括MCU、CPLD、電源模塊、開關控制器和端口控制器，所述電源模塊分別與所述MCU、所述CPLD、所述開關控制器和所述端口控制器相連，所述MCU和所述CPLD之間雙向通信，所述端口控制器分別與所述MCU和所述CPLD連接，用于連接外部真空設備；所述開關控制器與所述MCU相連。

優選的，所述真空控制裝置上連接有若干真空計和對應的閘閥，所述真空計連接在所述MCU上，所述閘閥連接在所述開關控制器上。

優選的，所述真空計通過RS485通信接口與MCU相連。

優選的，所述電路板上還設置有網絡控制器，所述網絡控制器分別與所述MCU和所述CPLD相連。

優選的，所述真空設備通過RS232連接在所述端口控制器上。

優選的，所述真空設備包括渦輪分子泵、低溫泵、粗抽泵和排氣閥中的至少一種。

本實用新型的另一個目的在于提供了一種真空控制系統，包括至少一個真空控制裝置，還包括集線器和上位機，所述上位機與所述真空控制裝置均與所述集線器相連。

優選的，所述集線器通過光纖通信板與所述真空控制裝置相連。

本實用新型的有益效果是：

本實用新型提供了一種真空控制裝置及系統，該裝置采用MCU和CPLD架構，一方面，可以減輕MCU負荷，不影響其它對實時性要求較高的任務的正常執行；另一方面，CPLD編程靈活，利用CPLD的可重構特性可以編寫所需的功能模塊實現外部模塊電路和MCU處理器之間的信號互聯，靈活擴展所需要的功能，簡化復雜度，降低開發難度，提高穩定性且易于維護。該系統硬件集成，配合配套上位機軟件，實現真空控制系統小型化、集成化、智能化。

附圖說明

圖1是實施例1中提供的真空控制裝置電路板連接示意圖；

圖2是真空控制系統的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施方式僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

實施例1